用于消除通過CVD過程,例如,用于在襯底上形成鈦酸鍶鋇(BST)薄膜的金屬有機化學氣相沉積過程(MOCVD)沉積多組分金屬氧化物所產生的流出物的裝置和方法,該CVD過程使用含有至少一種金屬配位絡合物和用于溶解該金屬配位絡合物的適當溶劑介質的金屬源試劑液體溶液,所述的金屬配位絡合物包含在穩定絡合物中與至少一個配體配位結合的金屬。對流出物進行吸附處理,以除去流出物中的前體物和MOCVD過程的副產物??梢允褂媚┒吮O測器(62),如石英微量天平監測器監測吸附處理裝置中開始漏出的情況。
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“使用配體交換耐蝕金屬有機前體溶液的化學氣相沉積過程的流出物的消除” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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