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    光調制太赫茲分子檢測器件的制備方法

    1056   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:11:26
    本發明公開了一種光調制太赫茲分子檢測器件的制備方法，此方法利用簡單的化學組裝、氣液界面分離、熱力學調控，通過燒結溫度和時間調控，得到了無缺陷的石墨烯薄膜結構。此薄膜具有極低缺的陷態結構，一方面具有良好的面電阻(10?30Ω/□)，另一方面具有極好的光學響應性。將此薄膜貼附于石英表面并進行圖案化，至于太赫茲光下，隨著表面滴加分子濃度的增加，太赫茲透射光譜峰位會隨之變化，因此可以制備成太赫茲分子檢測器件，用于檢測分子殘留。
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    聲明：
    “光調制太赫茲分子檢測器件的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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