本發明主要涉及用于光刻模型校準的圖案選擇的方法和設備。根據一些方面,本發明的圖案選擇算法可以被應用于任何已有的候選測試圖案池。根據一些方面,本發明自動地選擇這些測試圖案,其能夠更有效地由已有的候選測試圖案池來確定優化的模型參數值,如與設計優化圖案相反。根據另外的方面,根據本發明的已選擇的測試圖案組能夠激發模型公式中的所有已知的物理和化學特性,確保測試圖案的晶片數據可以將模型校準推動成優化的參數值,其實現了由模型公式施加的預測精度的上邊界。
聲明:
“用于光刻術模型校準的圖案選擇” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)