本發明關于一種清洗沉積噴出頭的方法與設備,可應用于半導體的化學氣相沉積機臺中,藉由機臺抽真空以除去沉積噴出頭的外蓋與其表面的塵粒;再將沉積噴出頭的外蓋與沉積噴出頭由機臺上拆下,并清除機臺上用以裝載沉積噴出頭的區域表面的塵粒;將沉積噴出頭浸入化學反應槽以超音波震蕩;將沉積噴出頭浸入溢流的水槽,并監測水阻值;將沉積噴出頭浸入回流的異丙醇槽;之后以烘干系統烘干沉積噴出頭;以完成清洗沉積噴出頭的程序。
聲明:
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