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    有效提高薄膜密度的卷對卷電子束鍍膜設備

    1053   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:20:18
    本實用新型公開了一種有效提高薄膜密度的卷對卷電子束鍍膜設備,包括位于上方的卷繞室、下方的鍍膜室。鍍膜室與卷繞室通過鍍膜主輥旁邊的縫隙相連，所述卷繞室內設有卷繞系統、在線膜厚測試儀、等離子預處理系統，所述卷繞室頂部連有抽真空系統，所述鍍膜室內設有電子槍系統、等離子體輔助系統、等離子監測系統、晶振儀、蒸發坩堝、偏轉磁場系統。本實用新型能夠有效克服成膜粒子在基底上遷移能力差所引起的致密度差的問題，具有蒸發速度快，成膜質量高的特點，還能有效地解決由于電子束的高能量改變沉積薄膜的化學計量比導致的阻隔性能的變差的缺點，利用反應性氣體將金屬元素轉化為化學計量比穩定的高阻隔氧化物層，有效提高薄膜密度。
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    “有效提高薄膜密度的卷對卷電子束鍍膜設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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