本發明公開了一種超薄金屬膜太赫茲吸收層及其制備方法,該吸收層制備在太赫茲探測器敏感單元的頂層。所述超薄金屬膜通過刻蝕減薄較大厚度的金屬薄膜制備,在刻蝕減薄過程中調節工藝參數與刻蝕劑濃度分布,造成微區刻蝕速率差異,獲得粗糙、多孔、黑化的超薄金屬膜??涛g的方法有兩種:一種是用反應離子刻蝕方法與干法刻蝕的后腐蝕現象將金屬薄膜刻蝕為超薄金屬膜,具有易控制反應過程與超薄金屬膜厚度等優點;另一種是用濕法化學腐蝕方法將金屬薄膜腐蝕為超薄金屬膜,具有易控制超薄金屬膜表面形貌與顏色等優點。粗糙、多孔、黑化的金屬薄膜表面結構具有高表體比、低反射率的特點,有效增強太赫茲輻射的吸收性能和效率。
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