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    離子型大位阻銻化物發光材料的制備方法及其應用

    751   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:57:02
    本發明屬于發光材料領域，具體涉及一種離子型大位阻銻化物發光材料及其制備方法和應用。其化學式為C66H60X3SbCl6(其中X＝Sb,As,P，優選Sb)。本發明的發光材料在250?450nm有很寬的激發帶，最佳激發峰位于365nm處，可以很好的與商用紫外芯片相匹配，發射出發射峰位于619nm的明亮橙黃色發光。該材料制備方法簡單易行、對環境友好，克服了傳統鉛基鈣鈦礦材料的毒性和不穩定性；而且此離子型大位阻銻化物發光材料的成本低，反應條件溫和，生產周期短，熒光量子產率高，在白光照明和高能射線探測及成像領域具有非常好的發展前景。
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    “離子型大位阻銻化物發光材料的制備方法及其應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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