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    半導體測試結構及其形成方法、半導體器件的測試方法

    987   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:00:09
    本發明提供了一種半導體測試結構及其形成方法、半導體器件的測試方法，所述半導體測試結構包括：至少一個半導體器件、至少兩個測試端、至少四個單向導通結構；其中，半導體器件形成在襯底；一個半導體器件連接有兩個測試端；一個測試端和一個半導體器件之間并聯連接有兩個單向導通結構，所述兩個單向導通結構的導通方向相反。采用本發明提供的半導體測試結構對半導體器件進行測試時，可以定位出異常位置，從而能夠僅對異常位置進行失效分析，避免了由于盲目全面的失效分析，而浪費失效分析的機臺資源以及人力資源的情況發生，提高了效率，降低了成本。
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