本發明公開了一種利用高溫納米壓痕儀測量高溫氧化膜內應力的方法。本發明利用高溫納米壓痕儀,對被測試件的表面做壓痕,逐段升溫,同時利用高溫探針掃描,在線、原位地直接記錄分析被測試件的表面從平坦到粗糙起伏的轉變過程,同時根據表面形貌演化圖像,利用應力?表面形貌演化理論,能夠直接計算獲得微納米尺度的表面氧化過程中氧化膜內部的應力,且相對于常規的光測方法而言,該方法步驟簡單、易于操作,能夠為材料的氧化膜生長及失效性能提供直接有效的參數評估。
聲明:
“利用高溫納米壓痕儀測量高溫氧化膜內應力的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)