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    硅片薄膜的生長方法

    1071   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 09:37:11
    本發明公開了一種硅片薄膜的生長方法，包括：測得一控制硅片中央位置與周邊位置的薄膜厚度比；利用所述厚度比在硅片上進行第一次薄膜生長；在第一次生長的薄膜上進行光刻膠旋涂；利用硅片周邊曝光系統對硅片周邊位置進行曝光，經顯影后將部分光刻膠去除；通過刻蝕將硅片部分薄膜去除；去除剩余的光刻膠后，利用所述厚度比進行第二次薄膜生長，通過兩次薄膜生長使薄膜達到要求的厚度。本發明所述硅片薄膜的生長方法，能使硅片上生長的薄膜其中央位置和周邊位置的薄膜厚度一致，減少硅片周邊芯片的失效率，提高產品的成品率。
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    聲明：
    “硅片薄膜的生長方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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