遼寧有色金屬真空冶金設備

真空超高溫超高壓爐（氣壓） 388     

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真空超高溫超高壓爐主要用于粉末成型、預織成型工件的脫脂，也可用于高溫加壓燒結、浸滲增強、晶體轉化生長、化合反應等工藝，采用電阻加熱。

真空超高溫超高壓爐(機械加壓） 407     

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真空超高溫超高壓爐(機械加壓）主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產品應用于能源、航天、航空等領域。

專用脫脂燒結爐（注射成型MIM） 337     

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專用脫脂燒結爐（注射成型MIM）主要用于鐵基、不銹鋼、鈦合金、合金鋼和高速鋼等材料的注射成型制品的脫脂和燒結。

真空燒結爐（氧化鋁粉） 321     

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真空燒結爐（氧化鋁粉）主要用于氧化鋁粉、特種陶瓷、高純氧化鋁塊、超純氧化鋁餅在保護氣氛下的連續燒成 。

真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料） 369     

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真空高溫燒結爐（碳碳、碳碳-碳陶復合材料）主要用于碳/碳復合材料、碳/碳-碳/陶復合材料的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅） 353     

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真空高溫燒結爐（碳化硅、氮化硅）主要用于SiC陶瓷制品的反應燒結、無壓燒結、重結晶燒結、熱等靜壓燒結，也可用于氮化硅等其他陶瓷制品的燒結。

真空高溫燒結爐（石墨提純） 349     

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真空高溫燒結爐（石墨提純）主要用于石墨制品等的高溫石墨化、高溫提純處理。

真空鎢網爐/連續生產線 （電力能源燃料芯塊） 337     

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真空鎢網爐/連續生產線 主要用于電力能源燃料芯塊及燃料小球、燃料大球的燒結處理。

真空燒結爐（碳納米管） 291     

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真空燒結爐（碳納米管）主要用于制備大型納米碳材料，如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備。

真空燒結爐（電池負極） 306     

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設備結構緊湊、升溫速度快、密封性能好、爐膛溫度均勻性高，擁有高性能的燒結效果、現代化的外型設計和簡單便捷的操作功能。

真空高頻感應釬焊爐 307     

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主要用于航空發動機帶直通接頭、三通接頭、馬鞍座接頭及彎頭等機構導管組件的惰性氣體保護感應釬焊。

真空熱壓爐（擴散焊） 391     

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主要用于在一定溫度、壓力下，兩個和兩個以上表面之間的原子級擴散連接，產品應用于核能、航天、航空等領域。

真空鋁釬焊爐 344     

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鋁及鋁合金葉輪、散熱器、波導器件、汽車冷凝器等產品的真空釬焊處理，廣泛應用于汽車、電子、國防、航天、航空領域。

真空水淬爐 397     

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真空水淬爐主要用于45#鋼及鋁型材等的真空水淬處理。

真空高溫釬焊爐 327     

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主要用于不銹鋼、銅合金、高溫合金、鈦合金、硬質合金、金屬陶瓷等材料的真空釬焊，適用釬料為鎳基、銅、銀基等。

真空自耗電極電弧爐 575     

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產品應用：采用壓制或感應爐熔煉的原料錠棒為電極，在真空或保護氣氛下通過電弧高溫熔煉或重熔該電極原料的真空冶金精煉設備。用于鈦及鈦合金、鋯等活潑金屬材料重熔提純。技術參數：型號HVAR/M(生產型)HVAR/S(實驗型)HVAR/C(連鑄型)

200kg真空感應熔煉爐 409     

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200kg真空感應熔煉爐是一種先進的冶金設備，它在真空條件下利用中頻感應加熱原理進行金屬的熔化。這種設備廣泛用于金屬和合金的冶煉、鑄造和重熔等工藝。該設備采用旋轉錠模托板，一爐可澆鑄多個錠子，適用于銀基、鎳基合金、特殊不銹鋼等在真空或保護氣氛下進行熔化、精煉。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（實驗型） 479     

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在冶金實驗領域，精準、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關鍵。實驗型電弧等離子體金屬納米粉制備系統為冶金研究提供了理想的解決方案。該設備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統冶金實驗方法的局限。其由高真空獲得與測量系統、粉體制備系統、粉體收集系統及電氣控制系統組成，高真空機組采用復合分子泵及機械泵，制備室極限真空度可達≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實驗中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體的純度和質量。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（生產型） 419     

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在冶金行業，納米金屬粉體材料的應用前景廣闊，而電弧等離子體金屬納米粉制備系統正是為滿足這一需求而誕生的先進生產型設備。該設備以卓越的冶金工藝為基礎，能夠高效批量制備納米級金屬粉體材料，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，展現出傳統冶金制備方法難以企及的優越性。其高真空獲得與測量系統、粉體制備系統等六大組成部分協同運作，其中高真空機組采用復合分子泵、羅茨泵、機械泵組合，為冶金過程中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體質量與性能。

高真空熱壓爐 440     

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高真空熱壓爐是冶金領域中一種關鍵的粉末冶金設備，專門用于粉體材料的熱壓成型。這種設備通過在高真空環境下對粉末材料施加高溫和高壓，實現材料的致密化和成型，廣泛應用于制造高性能的金屬、陶瓷和復合材料等。高真空熱壓爐的工作原理和精確控制能力使其成為制備先進材料的重要工具，尤其在需要材料具有高強度、高硬度和優異耐磨性的應用中。

放電等離子燒結系統（SPS） 463     

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放電等離子燒結系統（SPS）是一種高效的材料制備技術，它通過在較低溫度下實現快速燒結，為致密材料的制備提供了一種新穎的方法。這種系統在材料科學領域，尤其是在納米技術、非晶材料、復合材料和梯度材料的制備中，展現出了巨大的應用潛力。SPS技術的應用不僅限于傳統材料的加工，還有可能開發出性能更加優良的新材料。

高真空磁控濺射離子鍍膜設備 459     

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高真空磁控濺射離子鍍膜設備是一種在現代冶金和材料科學領域中不可或缺的先進工具。該設備通過在高真空環境下進行磁控濺射或多弧離子鍍膜，能夠制備出高質量的薄膜材料，廣泛應用于各種工業和科研領域。設備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運動控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。

高真空脈沖激光沉積系統 375     

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高真空脈沖激光沉積系統（PLD）是冶金和材料科學領域中一種先進的薄膜沉積技術。它通過使用高能脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜，特別適用于制備復雜氧化物、陶瓷和半導體材料等。PLD技術的獨特之處在于能量源（脈沖激光）位于真空室外部，這使得在材料合成時，工作壓力的動態范圍非常寬，能夠達到10^-8Pa至1Pa，從而為合成具有獨特功能的納米結構和納米顆粒提供了可能。

化學氣相沉積 568     

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化學氣相沉積（CVD）是一種在冶金和材料工程中廣泛應用的技術，它通過在高溫下將氣態物質轉化為固態薄膜，用于制造各種高性能材料。CVD技術在冶金行業中主要用于制備高純度、高性能的金屬和陶瓷涂層，這些涂層可以顯著提高材料的耐磨性、耐腐蝕性和高溫穩定性。

高真空電子束熱蒸發系統 441     

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高真空電子束熱蒸發系統（E-Beam）是冶金和材料科學領域中一種精密的真空鍍膜設備。該系統利用電子束蒸發源技術，能夠實現高效率和高精度的材料蒸發與沉積，適用于制備各種金屬、合金以及化合物薄膜。在冶金行業中，這種系統特別適用于高性能材料的制備，如高溫合金、磁性材料、光學涂層和電子材料等。

高真空電阻熱蒸發系統 445     

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高真空電阻熱蒸發系統是一種專為冶金和材料科學領域設計的先進設備，它在高真空環境下進行材料的蒸發和沉積，廣泛應用于制備薄膜、納米材料以及進行材料表面改性等。該系統由高真空獲得與測量系統、樣品臺或工件轉架系統、有機（OLED）/金屬蒸發源系統及電氣控制系統等四部分組成，確保了蒸發過程的精確控制和高效進行。

等離子體增強化學氣相沉積PECVD 464     

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等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）是一種在冶金和材料科學領域廣泛應用的技術，它通過利用等離子體的活性來增強化學反應速率，實現高質量薄膜的沉積。這種設備在制備高性能的金屬和非金屬薄膜方面具有重要作用，尤其是在需要精確控制膜厚、成分和結構的應用中。

高真空管式電阻爐 404     

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高真空管式電阻爐是冶金領域中一種專門用于材料高溫處理的設備，它能夠在高真空環境下對材料進行燒結、退火等熱處理過程。這種設備對于需要在無氧或低氧環境中進行熱處理的材料尤為重要，比如在鈦合金、不銹鋼和其他特種金屬的生產中，高真空環境可以防止材料氧化，確保材料性能。

高真空電弧熔煉系統 420     

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高真空電弧熔煉系統是一種先進的冶金設備，它主要用于制備材質均勻的合金母材或金屬熔錠。該系統由高真空獲得與測量系統、電弧熔煉系統、電磁攪拌系統及電氣控制系統等四部分組成，確保了在高真空環境下進行電弧熔煉的高效性和穩定性。高真空機組采用分子泵及機械泵組成，能夠達到極限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa?L/s，為熔煉過程提供了理想的高真空環境。電弧熔煉系統采用優質弧焊電源，高頻起弧，鎢極與材料不接觸，無污染，確保了熔煉過程的純凈性。

高真空無坩堝氣霧化制粉系統（鈦合金專用） 460     

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高真空無坩堝氣霧化制粉系統（鈦合金專用）是一種為鈦合金粉末制備專門設計的先進冶金設備。該系統采用高真空環境進行無坩堝氣霧化制粉，有效避免了坩堝材料對金屬熔體的污染，從而保證了鈦合金粉末的高純度和優良性能。這對于航空航天、船舶工程和特殊環境領域中使用的高溫合金粉末制備尤為重要，因為這些領域對材料的抗熱腐蝕性、抗氧化性、高溫穩定性和結構穩定性有著極高的要求。