高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備,具備優異的真空性能,極限真空度可達<6.7x10??Pa,漏率優于1.0x10??Pa·L/s,采用分子泵+干泵的抽氣機組,提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體,內部尺寸至少為直徑中50mmx100mm,加熱爐內最高加熱溫度達800℃,控溫精度為±1℃,且外殼溫度低于200℃。此外,裝置還具備氙氣循環降溫系統,保護罐體密封口,以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統聯鎖保護功能的電控系統。
該真空管式爐具備優異的真空性能,系統極限真空度可達到優于3.0×10??Pa,而系統漏率僅為1.0×10??Pa·L/s,這保證了爐內能夠在極低的氣壓下進行高溫處理,適合對材料進行精密的熱處理工藝。這些真空指標對于確保材料處理過程中的高質量和高純度至關重要,如陶瓷基板的退火和真空燒結等應用。
高溫高真空試驗爐是一種用于高溫真空環境下的材料性能測試設備,具備以下特點:在1700K工作溫度下,爐膛內真空度優于1.0×10??Pa,真空計測量范圍寬廣(5.0×10??Pa~1.0×10?Pa)。設備設計滿足長時間穩定工作溫度不低于1500℃,最高可達1550℃,樣品區域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內優于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉空間(約Ф300mm×200mm),開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。
鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設備,采用中頻感應加熱技術,在真空環境中對鈹金屬進行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器,蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集,實現高效提純。該設備一次蒸餾量可達3000克,具備工業化生產規模,操作簡便,且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便,適合大規模生產高純度鈹金屬。