有色金屬真空冶金設備

真空感應燒結爐 446     

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真空感應燒結爐是一種在真空或保護氣氛下進行材料燒結的設備，廣泛應用于冶金和材料科學領域。高純度燒結：在真空環境下，材料表面和內部的氣體分子被有效排除，減少雜質和氧化物的生成，從而實現高純度燒結。

真空熔煉中包底鑄離心鑄造爐 438     

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真空熔煉中包底鑄離心鑄造爐是一種集真空熔煉、離心鑄造及中包底鑄工藝于一體的先進冶金設備，廣泛應用于航空航天、能源發電、汽車制造等領域。

半連續真空熔鑄爐 603     

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半連續真空熔鑄爐是一種先進的冶金設備，廣泛應用于高溫合金、精密合金、特殊鋼、銅、鋁及其合金的熔煉和鑄造。它利用中頻感應加熱原理，在真空或惰性氣體保護條件下進行熔煉和澆鑄，能夠有效減少金屬氧化和雜質污染，確保合金的高純度和高質量。此外，該設備還可用于稀土永磁材料（如釹鐵硼）的熔煉鑄造。

納米晶合金真空熔煉爐 417     

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納米晶合金真空熔煉爐是一種專門用于制備高性能納米晶合金材料的設備，廣泛應用于冶金和材料科學領域。

真空特種冶煉爐 339     

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真空特種冶煉爐是一種在真空或保護氣氛下進行金屬熔煉和合金化的設備，廣泛應用于冶金、材料科學及特種合金的生產。

半連續真空熔煉爐 423     

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半連續真空熔煉爐是一種在真空環境下進行金屬熔煉的設備，廣泛應用于冶金領域，特別是在高純金屬材料的制備和特種合金的生產中。

真空熔鑄爐 429     

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真空熔鑄爐是一種在真空或保護氣氛下進行金屬熔煉和合金化的設備，廣泛應用于冶金、材料科學及特種合金的生產。其核心功能包括高純金屬的熔煉、合金化處理以及精煉。在真空環境中，物質與殘余氣體的化學作用極弱，這使得真空熔鑄爐特別適合用于黑色金屬、稀有金屬、超純金屬及其合金的熔煉。此外，真空熔鑄爐還可通過降低氣體分壓實現鋼液脫氣精煉，適用于高溫、超高溫難熔合金的熔煉。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（實驗型） 480     

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在冶金實驗領域，精準、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關鍵。實驗型電弧等離子體金屬納米粉制備系統為冶金研究提供了理想的解決方案。該設備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統冶金實驗方法的局限。其由高真空獲得與測量系統、粉體制備系統、粉體收集系統及電氣控制系統組成，高真空機組采用復合分子泵及機械泵，制備室極限真空度可達≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實驗中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體的純度和質量。

電弧等離子體金屬納米粉制備系統（生產型） 420     

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在冶金行業，納米金屬粉體材料的應用前景廣闊，而電弧等離子體金屬納米粉制備系統正是為滿足這一需求而誕生的先進生產型設備。該設備以卓越的冶金工藝為基礎，能夠高效批量制備納米級金屬粉體材料，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，展現出傳統冶金制備方法難以企及的優越性。其高真空獲得與測量系統、粉體制備系統等六大組成部分協同運作，其中高真空機組采用復合分子泵、羅茨泵、機械泵組合，為冶金過程中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體質量與性能。

高真空熱壓爐 440     

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高真空熱壓爐是冶金領域中一種關鍵的粉末冶金設備，專門用于粉體材料的熱壓成型。這種設備通過在高真空環境下對粉末材料施加高溫和高壓，實現材料的致密化和成型，廣泛應用于制造高性能的金屬、陶瓷和復合材料等。高真空熱壓爐的工作原理和精確控制能力使其成為制備先進材料的重要工具，尤其在需要材料具有高強度、高硬度和優異耐磨性的應用中。

放電等離子燒結系統（SPS） 463     

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放電等離子燒結系統（SPS）是一種高效的材料制備技術，它通過在較低溫度下實現快速燒結，為致密材料的制備提供了一種新穎的方法。這種系統在材料科學領域，尤其是在納米技術、非晶材料、復合材料和梯度材料的制備中，展現出了巨大的應用潛力。SPS技術的應用不僅限于傳統材料的加工，還有可能開發出性能更加優良的新材料。

高真空磁控濺射離子鍍膜設備 460     

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高真空磁控濺射離子鍍膜設備是一種在現代冶金和材料科學領域中不可或缺的先進工具。該設備通過在高真空環境下進行磁控濺射或多弧離子鍍膜，能夠制備出高質量的薄膜材料，廣泛應用于各種工業和科研領域。設備的主要功能包括高真空獲取與測量、樣品或工件的精確放置與運動控制、磁控靶或多弧源的靈活選擇以及輔助鍍膜工藝的集成。

高真空脈沖激光沉積系統 376     

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高真空脈沖激光沉積系統（PLD）是冶金和材料科學領域中一種先進的薄膜沉積技術。它通過使用高能脈沖激光快速蒸發靶材，生成與靶材組成相同的薄膜，特別適用于制備復雜氧化物、陶瓷和半導體材料等。PLD技術的獨特之處在于能量源（脈沖激光）位于真空室外部，這使得在材料合成時，工作壓力的動態范圍非常寬，能夠達到10^-8Pa至1Pa，從而為合成具有獨特功能的納米結構和納米顆粒提供了可能。

化學氣相沉積 568     

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化學氣相沉積（CVD）是一種在冶金和材料工程中廣泛應用的技術，它通過在高溫下將氣態物質轉化為固態薄膜，用于制造各種高性能材料。CVD技術在冶金行業中主要用于制備高純度、高性能的金屬和陶瓷涂層，這些涂層可以顯著提高材料的耐磨性、耐腐蝕性和高溫穩定性。

高真空電子束熱蒸發系統 441     

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高真空電子束熱蒸發系統（E-Beam）是冶金和材料科學領域中一種精密的真空鍍膜設備。該系統利用電子束蒸發源技術，能夠實現高效率和高精度的材料蒸發與沉積，適用于制備各種金屬、合金以及化合物薄膜。在冶金行業中，這種系統特別適用于高性能材料的制備，如高溫合金、磁性材料、光學涂層和電子材料等。

高真空電阻熱蒸發系統 445     

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高真空電阻熱蒸發系統是一種專為冶金和材料科學領域設計的先進設備，它在高真空環境下進行材料的蒸發和沉積，廣泛應用于制備薄膜、納米材料以及進行材料表面改性等。該系統由高真空獲得與測量系統、樣品臺或工件轉架系統、有機（OLED）/金屬蒸發源系統及電氣控制系統等四部分組成，確保了蒸發過程的精確控制和高效進行。

等離子體增強化學氣相沉積PECVD 464     

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等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）是一種在冶金和材料科學領域廣泛應用的技術，它通過利用等離子體的活性來增強化學反應速率，實現高質量薄膜的沉積。這種設備在制備高性能的金屬和非金屬薄膜方面具有重要作用，尤其是在需要精確控制膜厚、成分和結構的應用中。

高真空管式電阻爐 404     

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高真空管式電阻爐是冶金領域中一種專門用于材料高溫處理的設備，它能夠在高真空環境下對材料進行燒結、退火等熱處理過程。這種設備對于需要在無氧或低氧環境中進行熱處理的材料尤為重要，比如在鈦合金、不銹鋼和其他特種金屬的生產中，高真空環境可以防止材料氧化，確保材料性能。

高真空電弧熔煉系統 420     

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高真空電弧熔煉系統是一種先進的冶金設備，它主要用于制備材質均勻的合金母材或金屬熔錠。該系統由高真空獲得與測量系統、電弧熔煉系統、電磁攪拌系統及電氣控制系統等四部分組成，確保了在高真空環境下進行電弧熔煉的高效性和穩定性。高真空機組采用分子泵及機械泵組成，能夠達到極限真空度≤6.7×10^-5Pa，漏率≤10^-7 Pa?L/s，為熔煉過程提供了理想的高真空環境。電弧熔煉系統采用優質弧焊電源，高頻起弧，鎢極與材料不接觸，無污染，確保了熔煉過程的純凈性。

高真空無坩堝氣霧化制粉系統（鈦合金專用） 460     

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高真空無坩堝氣霧化制粉系統（鈦合金專用）是一種為鈦合金粉末制備專門設計的先進冶金設備。該系統采用高真空環境進行無坩堝氣霧化制粉，有效避免了坩堝材料對金屬熔體的污染，從而保證了鈦合金粉末的高純度和優良性能。這對于航空航天、船舶工程和特殊環境領域中使用的高溫合金粉末制備尤為重要，因為這些領域對材料的抗熱腐蝕性、抗氧化性、高溫穩定性和結構穩定性有著極高的要求。

高真空單輥旋淬設備 424     

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高真空單輥旋淬設備是一種集感應熔煉及甩帶于一體的多功能高真空科學儀器，它在冶金領域中具有重要的應用價值。該設備具備制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能，特別適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作。它被廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究，對于推動冶金科技進步和產業升級具有重要意義。

高真空噴鑄設備 411     

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高真空噴鑄設備是冶金領域中一種專門用于制備非晶塊體材料的先進裝置。這種設備通過在高真空環境下進行熔煉和噴鑄，能夠生產出具有獨特物理和化學性質的非晶材料，這些材料在磁性、強度和耐腐蝕性方面往往優于傳統晶體材料。

金屬納米粉蒸發制備系統 415     

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金屬納米粉蒸發制備系統是一種專業的設備，它在冶金領域中具有重要的應用價值。該系統主要用于制備金屬超微粉體材料，具備真空熔煉和澆鑄等多功能，非常適合霧化制粉工藝的探索和小批量生產。系統由高真空獲得與測量系統、感應熔煉系統、霧化系統、收集系統、尾氣處理系統及電氣控制系統等六部分組成，能夠實現精確控制和高效運作。

高真空氣霧化制粉系統 572     

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高真空氣霧化制粉系統是一種先進的冶金設備，主要用于制備金屬超微粉體材料，同時具備真空熔煉和澆鑄等功能，非常適合霧化制粉工藝的摸索和小批量生產。該系統由六大部分組成，包括高真空獲得與測量系統、感應熔煉系統、霧化系統、收集系統、尾氣處理系統及電氣控制系統，確保了整個制粉過程的高效與穩定。

真空中頻熔煉爐 416     

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HT型號真空中頻熔煉爐是一款智能化、高效率的真空熔煉設備，專為貴金屬鑄造設計。其采用380V電壓，功率范圍20KW~160KW（可定制），具備高度智能化的操作系統，僅需一個按鈕即可實現全自動熔煉和鑄造過程，普通工人即可獨立操作，顯著降低生產成本。設備在真空條件下完成鑄造，有效避免金塊、銀塊氧化、收縮和水波紋的產生，確保鑄錠質量。同時，完善的自我診斷系統和保護功能，保障設備低故障率運行，高度密封的鑄造缸全程無火焰，確保人機安全。

真空電弧爐 437     

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GKI-03真空電弧爐是一款小型電弧熔煉設備，適用于在真空或保護氣氛下進行金屬熔煉，特別適合制備難熔金屬及金屬碳化物等高純度材料。該設備能夠在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉，同時制備多個樣品，廣泛應用于高等院校、科研院所的材料研究與開發。其核心優勢在于通過真空環境減少金屬熔煉過程中的氧化和氮化反應，提高材料的純凈度和性能。

真空懸浮熔煉爐 462     

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GKI-04真空懸浮熔煉爐是一種小型真空感應加熱/熔化系統，廣泛應用于冶金領域，尤其適合制備新型金屬材料。該設備利用電磁感應原理，通過高頻或中頻交變磁場使金屬熔體懸浮，避免與坩堝接觸，從而防止污染，適用于高熔點、高純度和活潑金屬的熔煉。其主要技術參數包括最大輸出功率15~25kW，最高加熱溫度1800℃，配備高溫鉬片加熱體和鉬隔熱屏。此外，設備還具備真空系統、法蘭、石英管、石英坩堝、耐火保溫層、冷水機和保護裝置等完整配件。

真空鉬絲爐 500     

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GKI-11真空鉬絲爐是一種高性能的冶金設備，專門用于在真空或氣氛保護條件下對物料進行無污染的高溫熱處理。該設備采用高溫鉬片作為加熱體，配備鉬隔熱屏，能夠在高真空度（極限真空度小于6.67×10?? Pa）和高溫（最高加熱溫度1600℃）環境下工作。其有效加熱區域為直徑100mm×100mm，溫度檢測方式包括B型熱電偶或雙比色紅外測溫儀，確保溫度測量的準確性和可靠性。

真空氣氛爐 428     

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GKI-12真空氣氛爐是一種高性能的冶金設備，采用碳纖維爐膛和1800型鉬絲加熱元件，能夠在真空或特定氣氛下進行材料的熱處理和燒結。其最高工作溫度可達1700℃，額定溫度為1650℃，配備50段程序控溫和PID控制，確保溫度控制精度高。該設備的熱電偶在冷態下的極限真空度可達≤0.008Pa，真空泵為2XZ-15D，擴散泵可選TK150或TK200。

真空碳管爐 444     

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GKI-13真空碳管爐是一種周期作業式高溫真空燒結設備，廣泛應用于功能陶瓷、光學材料、碳復合材料、硬質合金、粉末冶金等領域。該設備采用石墨碳管作為加熱元件，能夠在高溫真空條件下對材料進行燒結處理，也可在充氣保護環境下進行成型燒結。