OTF-1200X-S-HPCVD 1200℃坩堝可移動型管式爐
OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型開啟式管式爐,專為冶金及材料合成實驗設計。其爐管直徑為50mm,配備步進電機控制坩堝在爐管內的移動,能夠實現精確的溫度控制和材料處理。這種設計特別適合用于冶金領域中的材料蒸發、升華以及薄膜沉積等實驗,可有效控制材料的生長過程和微觀結構,為研究高性能金屬材料和
復合材料提供重要的實驗支持。
應用范圍:OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備最高工作溫度為1200℃。
產品型號 :OTF-1200X-S-HPCVD
OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備最高工作溫度為1200℃。
性能指標和基本配置