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    > 1200℃PECVD系統

    1200℃PECVD系統

    1200℃PECVD系統

    338
    規格/型號：KJ-PECVD-1200-50*300-F3
    品牌：鴻爐機械
    應用領域：材料制備
    產地：河南 - 鄭州
    廠家/供應商：河南鴻爐機械設備有限公司
    咨詢電話:：177-3714-9370（請說明信息源自“中冶有色網”）
    更新時間：2025-07-29
    級別：待認證

    1200℃PECVD系統說明介紹

    1200℃PECVD系統

    設備介紹

    PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。該PECVD管式爐溫度范圍寬;濺射區域長;整管可調;精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

    產品優勢

    更好的沉積效率

    PECVD比普通CVD具有更高的化學氣相沉積速率、更好的均勻性、一致性和穩定性

    所需溫度更低

    PECVD對于化學氣相沉積需要比普通CVD更低的溫度

    成品質量好

    具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點

    技術參數

    產品名稱 1200℃PECVD系統

    產品型號 KJ-PECVD-1200-50*300-F3

    加熱系統

    顯示 LED

    最高溫度 1200℃

    長期工作溫度 ≤1100℃

    升溫速率 0~10℃/min

    溫區長度 300mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)

    加熱元件 硅鉬棒

    熱電偶 N型

    溫度均勻性 ±1℃

    爐管尺寸 直徑60 x 長度1200mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)

    材質：氧化鋁

    溫度控制 通過可控硅功率控制進行PID自動控制

    加熱過程 30步可編程

    最大工作壓力 0.02MPa

    真空系統

    旋片泵 冷態極限真空10Pa

    真空計 數顯真空計

    真空法蘭 帶閥門和針頭的不銹鋼真空法蘭

    質量流量計

    流量范圍 CO2(流量范圍：0-200 sccm

    CH4(流量范圍：0-200 sccm)

    N2 流量范圍(流量范圍：0-200 sccm)

    等離子射頻發生器

    輸出功率：0 -300W可調，±1%穩定性

    射頻頻率：13.56 MHz ±0.005% 穩定性
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    1200℃PECVD系統 CVD系統
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    河南鴻爐機械設備有限公司
    企業認證：
      
    所屬領域：
    材料制備
    企業性質：
    -
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    -
    聯系電話：
    177-3714-9370
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