產品介紹
KJ-T1200-S6012LK1-4Z5S型
石墨烯生長爐是一種特殊的CVD系統,是專門為在金屬箔(像
銅箔、
鋁箔等)上生長薄膜而設計;廣泛應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究上,特別適用于
碳納米管、碳納米線、石墨烯的生長。該設備由KJ-1200T管式爐+真空系統+供氣系統+水冷系統組成 ,最高溫度可以達到1200度,可以是單溫區、雙溫區、三溫區等,極限真空可以達到10-3Pa,供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計,混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。軟件控制系統:該爐配有通訊接口和軟件,可以直接通過電腦控制爐子的各個參數,并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況,爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出,并能把每個時刻的溫度數據保存起來,隨時可以調出。
產品優勢
成品質量好
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
沉積效果好
等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
智能多段PID可編程
采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表,能進行30段程序控溫,移相觸發、可控硅控制
技術參數
產品名稱 1200℃石墨烯生長爐
產品型號 KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S
管式爐
加熱區長度 440mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)
工作溫度 ≤1100℃
最高溫度 1200℃
爐管尺寸 Φ60×1440mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)
等離子射頻電源
輸出功率 5 ~500W ± 1% .
真空度 10-3torr
波紋管 KFD25 快接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連.
質量流量計
四通道控制 精度0.02% 、數字顯示、自動控制
水冷系統
水冷法蘭要求 水流量 >= 10L/M ,配有專業水冷機組