設備介紹
定制立式PECVD設備,由真空立式管式爐、石英真空室、射頻電源、供氣系統、真空測量系統組成。該系統以含鉬電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結構和30段程序控溫儀表,移相觸發、可控硅控制,爐膛采用
氧化鋁多晶纖維材料,爐管兩端能不銹鋼法蘭密封,不銹鋼法蘭上安裝有氣嘴、閥門和壓力表,
真空泵接口,具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、
石墨烯材料等。
產品優勢
沉積效果好
等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜
成品質量好
PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
沉積應力大小可調
可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小
技術參數
產品名稱 定制PECVD設備
產品型號 KJ-PECVD-DZ
立式管式爐
爐膛模式 立式開啟式
爐膛材料 高純度氧化鋁耐火纖維
加熱元件 含鉬加熱絲
極限溫度 1200℃
工作溫度 ≤1100℃
升溫速率 建議≤10℃/min
加熱溫區 單溫區、多溫區
溫區長度 200mm、300mm、440可選
(其他尺寸可根據客戶需求定制)
爐管材質 高純石英
爐管直徑 40mm/50mm/60mm/80mm/100mm/120mm/150mm可選
(其他尺寸可根據客戶需求定制)
密封方式 304不銹鋼真空法蘭一套(含密封硅膠圈)
控制模式 觸屏 30段智能PID程序控溫 預留通訊接口
控溫精度 ±1℃
溫度曲線 多段"時間—溫度曲線"任意可設
測溫元件 N型熱電偶
氣路系統
氣體通道 可同時連接多種氣源
流 量 計 質量流量計
氣路壓力 -0.1~0.15 MPa
截止閥 不銹鋼材質
氣體連接管 1/4不銹鋼管
等離子電源系統
功率范圍 0-100W、0-300W 、0-500W ± 1%
冷卻 風冷
數顯真空計及連接件
數顯真空計 數顯真空計安裝在不銹鋼法蘭上
真空泵組(相關連接配件)
真空泵 真空泵,及相應連接管件
汽化系統 ...
蠕動泵 精確度:+/- 0.5% FS
流量: 0 - 10 ml/min,可調,最小速率0.1ml/min