設備介紹
科佳高真空PECVD設備由管式爐、真空系統、氣體供應系統、射頻電源系統等組成。通過射頻電源將石英真空室中的氣體改變為離子狀態,等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。該系統主要用于金屬薄膜、陶瓷薄膜、復合薄膜、
石墨烯等的生長。
產品優勢
更好的沉積效率
PECVD比普通CVD具有更高的化學氣相沉積速率、更好的均勻性、一致性和穩定性
所需溫度更低
PECVD對于化學氣相沉積需要比普通CVD更低的溫度
成品質量好
具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點
技術參數
產品名稱 搖臂式集成控制PECVD設備
產品型號 KJ-PECVD
第一部分滑軌管式爐部分
爐管尺寸 Φ25mmX1600mm(最終長度取決于最終設計)
爐管材料 石英管
加熱區 200+200mm (雙溫區)
工作溫度 ≤1100°C
最高溫度 1200°C
溫度控制方法 N型熱電偶
控制方式 觸摸屏控制,帶獨立搖臂,可根據實際需要調節溫控屏角度,使用更方便
溫度控制精度 ±1℃
溫度控制保護 具有過熱和燒毀保護功能
加熱速率 建議≤10oC/min,最大20oC/min
加熱元件 電阻絲
工作電壓 交流220V單相50HZ/60HZ(電路電壓用戶可選擇定制)
加熱功率 4KW
爐膛結構 爐體有滑軌,可實現快速加熱和冷卻
真空法蘭 標準配置配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥
密封系統 爐管和法蘭采用硅膠O型圈擠壓密封,拆卸方便,可反復拆卸,氣密性好。
外殼 碳鋼或不銹鋼外殼
可選 輔助冷卻風扇
第二部分真空系統部分
名稱 真空系統
主要參數 1.采用中國品牌高真空分子泵組,極限真空度可達6.7x10-3pa(空冷狀態)
2.KF25快速連接,不銹鋼波紋管,手動擋板閥和法蘭,
真空泵連接;
3、數字真空顯示,測量范圍為5×10-50-150mbar,測量精度高
第三部分供氣系統部分
名稱 四通質量流量計
主要參數 四通道精密質量流量計:觸摸屏控制、數字顯示、自動控制
1、流量范圍:MFC 1-MFC3:10-1000sccm可調
MFC1:CH4 0-10sccm
MFC2:H2 0-200sccm
MFC3:0-200sccm
MFC4:0-300sccm
控制精度:±1.5%F.S。
2.一個混合罐
3.供氣系統左側安裝4個不銹鋼針閥,可手動控制4種氣體;
4.進風口和出風口:4進1出
流量控制:LCD觸摸屏
注:不支持液體或腐蝕氣體。
第四部分等離子電源部分
名稱 500W等離子電源
功率范圍 0-500W(連續可調)
工作頻率 13.56兆赫+0.05%
操作模式 連續輸出
RF輸出阻抗接口 N型,內螺紋(50Ω)
功率穩定性 ≤2W
最大反射功率 70W
電源保護設置 直流過流保護、功率放大器過溫保護、反射功率保護
電源電壓/頻率 單相交流(187V-253V)50-60HZ
冷卻法 空氣冷卻