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    > 高真空PECVD設備

    高真空PECVD設備

    高真空PECVD設備

    230
    規格/型號：KJ-T1200-S5030-H
    品牌：鴻爐機械
    應用領域：材料制備
    產地：河南 - 鄭州
    廠家/供應商：河南鴻爐機械設備有限公司
    咨詢電話:：177-3714-9370（請說明信息源自“中冶有色網”）
    更新時間：2025-07-29
    級別：待認證

    高真空PECVD設備說明介紹

    高真空PECVD設備

    設備介紹

    PECVD系統由管式爐，真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。PECVD增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。 等離子增強化學沉積系統廣泛應用于沉積高質量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等。

    產品優勢

    成品質量好

    PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點

    沉積效果好

    等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜

    薄膜應力大小可調

    可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小

    技術參數

    產品名稱 高真空PECVD設備(CE認證)

    滑軌管式爐部分

    產品型號 KJ-T1200-S5030-H

    爐管尺寸 Φ50mmX1600mm (其他尺寸可根據客戶需求定制)

    爐管材質 石英管

    加熱區 300mm(其他尺寸可根據客戶需求定制)

    工作溫度 ≤1100℃

    最高溫度 1200℃

    溫控方式 N型熱電偶

    控制方式 觸屏控制，帶獨立搖臂，可以根據實際使用需求，調節溫控屏的角度，使用更方便

    控溫精度 ±1℃

    溫控保護 具有超溫和斷偶保護功能

    升溫速率 建議≤10oC/min

    加熱元件 含鉬電阻絲

    爐膛材料 氧化鋁多晶纖維

    爐體結構 爐體帶滑軌，可實現快速升溫和降溫

    法蘭接頭 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭，已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥

    密封系統 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸，氣密性好。

    殼體 不銹鋼殼體

    選配 輔助降溫風扇

    真空系統部分

    名稱 真空系統

    主要參數

    1.采用進口安捷倫高真空分子泵組，極限真空度可達10-3pa

    2.KF25快接，不銹鋼波紋管，手動擋板閥與法蘭，真空泵相連;

    3.數字式真空顯示，測量精度高

    氣路系統部分

    名稱 四路質量流量計

    主要參數

    四通道精密質量流量計：觸屏控制，數字顯示，自動控制。

    4個不銹鋼針閥安裝在供氣系統的左側，可手動控制4種氣體;

    進出氣口：3進1出

    流量控制：手動旋轉式調節

    等離子電源部分

    名稱 500W等離子電源

    售后服務 質保一年，終身保修(耗材類：高溫密封圈、爐管、加熱元件等不屬于質保范圍)
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    高真空PECVD設備 PECVD設備
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    河南鴻爐機械設備有限公司
    企業認證：
      
    所屬領域：
    材料制備
    企業性質：
    -
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    聯系電話：
    177-3714-9370
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