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    釉下彩流變反應釉及其制備方法

    1073   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-18 14:29:31
    本發明公開了一種釉下彩流變反應釉及其制備方法，它在1350～1380℃的溫度環境下燒成，它包括底釉和面釉；其中，所述底釉所使用的釉料的組分及各組分質量份如下：三氧化二鋁35?38份，二氧化硅42?45份，氧化鉀3?5份，氧化鈉2?4份，氧化鈣1?3份，氧化鈦1?4份，氧化錫0.5?1份，氧化鈷0.2?0.5份；所述面釉所使用的釉料的組分及各組分質量份如下：三氧化鋁17?19份，二氧化硅58?60份，氧化鉀4?6份，氧化鈉3?5份，氧化鈣1?3份，氧化鈦0.5?1份，氧化鐵0.1?0.2份，氧化鉻0.2?0.5份。本發明能夠合理掌握其反應礦物的比例，合理控制釉溫，使產品畫面真正反映創作人員的構想，豐富了釉下彩的色彩，使產品藝術效果更濃，從而大大提高了作品價值。
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    聲明：
    “釉下彩流變反應釉及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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