權利要求書: 1.一種真空回轉窯進料裝置,真空回轉窯包括進行反應處理的高溫滾筒、與高溫滾筒同軸線設置的第一軸承座、第一機械密封,所述第一軸承座、第一機械密封順序設置于所述高溫滾筒的外側,所述高溫滾筒的外側面中心位置開設有通孔,所述第一軸承座固定在所述旋轉滾筒的外側面的外側,第一機械密封緊貼所述第一軸承座設置并與所述第一軸承座的外側面對接固定,其特征在于,進料裝置包括軸套、進料管、螺旋輸送軸、排氣管、排氣軸,所述軸套穿設在所述第一軸承座、第一機械密封的中部并且軸套的內側端對接所述高溫滾筒,所述軸套的外側端突出于所述第一機械密封并且在軸套的外側端面上開設有兩個固定孔,所述進料管與所述排氣管分別固定在一固定孔中,所述進料管上開設有進料口,所述排氣管上開設有排氣口,所述螺旋輸送軸穿設在所述進料管中并且一端通入至所述高溫滾筒、另一端與第一驅動機構相連,所述排氣軸穿設在所述排氣管中并且一端通入至所述高溫滾筒、另一端與第二驅動機構相連,其中,所述軸套的壁板為具有內部空腔的雙層板,在所述壁板上開設有進水口與出水口,在所述內部空腔中構成降溫用的水循環結構。
2.根據權利要求1所述的真空回轉窯進料裝置,其特征在于,所述軸套的壁板內的空腔中設置有多個擋水條,所述多個擋水條在壁板空腔中構成迷宮式的水流通道,外部冷卻水由所述進水口進入所述水流通道,冷卻水經所述水流通道周轉后由所述出水口送出循環。
3.根據權利要求1所述的真空回轉窯進料裝置,其特征在于,所述第一軸承座內設置有第一軸承,所述第一軸承環繞所述軸套的外側設置,所述第一軸承座、第一機械密封隨所述高溫滾筒同步繞所述軸套轉動。
4.根據權利要求1所述的真空回轉窯進料裝置,其特征在于,所述進料裝置包括第二機械密封,所述第二機械密封設置于所述進料管的另一端,所述螺旋輸送軸穿設在所述進料管中,且所述螺旋輸送軸從所述進料管的另一端穿出,所述第二機械密封環繞所述螺旋輸送軸設置。
5.根據權利要求4所述的真空回轉窯進料裝置,其特征在于,所述進料管的另一端處設置有第二軸承座,所述第二軸承座內設置有第二軸承,所述第二軸承環繞所述螺旋輸送軸設置,第二機械密封緊貼所述第一軸承座設置并與所述第二軸承座的外側面對接固定。
6.根據權利要求1所述的真空回轉窯進料裝置,其特征在于,所述進料裝置包括第三機
聲明:
“真空回轉窯進料裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)