限定了一種用于從水溶液中還原出金屬的電解處理方法。在電解時,溶液中的金屬沉積在陰極的沉積表面上。該處理方法包括以下步驟:在所述沉積表面上形成不均勻的電流密度,從而形成被低電流密度區域隔開的高電流密度區域,高電流密度區域和低電流密度區域之間的差異足以使金屬沉積集中于高電流密度區域,從而促進金屬在所述沉積表面上的不均勻沉積。還限定了用于從水溶液中電解還原出金屬的電解槽。該電解槽包括陰極,該陰極包括沉積表面,在水溶液電解過程中金屬沉積在該沉積表面上。在電解槽操作中,該沉積表面具有不均勻電場,該電場具有被弱電場區域隔開的強電場區域。強電場區域與弱電場區域之間的差異足以使金屬沉積集中于高電場區域,從而促進金屬在所述表面上的不均勻沉積。
聲明:
“電解處理方法及該電解處理方法中使用的電解槽” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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