本發明涉及金屬混合真空濺射合金靶材材料及其制作方法及用途。本發明的材料由以下物質按重量百分比構成:銅90%-95%,鋁1%-6%,鉻1%-3%,鈦1%-3%。本發明材料的制作方法,包括如下步驟:1)將銅、鋁、鉻、鈦原料按重量百分比充分混合;2)把混合粉末通過粉末冶金的方法燒結成靶材。上述燒結而成的靶材通過焊接工藝結合在銅或鉬的背板上。本發明材料的用途用于通過真空磁控濺射制造不可逆光存儲光盤。本發明的金屬混合真空濺射合金靶材材料可降低制作光盤的成本,提高光盤使用壽命,提升光盤片的刻錄和數據穩定性能。本發明材料的制作方法方便實用。本發明的材料的用途用于替代傳傳統光盤生產中所用材料。
聲明:
“金屬混合真空濺射合金靶材材料及其制作方法及用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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