本發明公開了一種陰極熒光共聚焦顯微光譜成像系統和方法,屬于陰極熒光成像技術領域。該系統包括掃描電子顯微鏡、拋物面鏡、光學聚焦模塊和信號接收裝置;所述的光學聚焦模塊包括掃描透鏡組、二維掃描振鏡和透鏡;從掃描電子顯微鏡側面的透明窗口出射的陰極熒光信號經掃描透鏡組準直后入射到二維掃描振鏡上,通過二維掃描振鏡調整光學聚焦模塊與掃描電子顯微鏡處于共聚焦狀態,本發明解決了電子束在掃描過程中收集到的陰極熒光信號的偏轉問題,提高了陰極熒光光譜的測量準確度,適合于各類地質礦物、半導體材料、納米材料以及生物藥物的檢測分析。
聲明:
“陰極熒光共聚焦顯微光譜成像系統和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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