本發明公開了一種用于半導體生產的廢水處理和零部件清洗一體化系統,包括底座,所述底座上固定連接有混合箱,所述混合箱內部分為清洗腔和混合腔,所述混合箱上端面設有清洗部,所述混合箱外部側表壁開設有貫穿所述混合箱內外表壁的通槽,所述通槽側表壁通過滑軌滑動連接有承接板,所述承接板上開設有通孔,所述通孔內固定連接有隔板。本發明中,設置有清洗部,首先將半導體器件放置在隔板上,通過滑軌將承接板以及隔板推入清洗腔中,啟動第一電機,帶動齒輪轉動,齒輪轉動帶動齒環轉動,齒環轉動清洗水箱以及噴頭轉動,對半導體器件進行旋轉清洗,清洗以后的污水流到混合腔中,實現更好的清洗效果。
聲明:
“用于半導體生產的廢水處理和零部件清洗一體化系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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