本發明公開一種回流機構,包括:化學溶劑收集槽、清水收集槽、化學溶劑循環管、清水循環管、清水進水管、廢水排出管、化學溶劑清洗箱及清水清洗箱?;瘜W溶劑清洗箱具有化學溶劑流入口及化學溶劑流出口,清水清洗箱具有清水流入口及清水流出口;化學溶劑收集槽、化學溶劑循環管、化學溶劑清洗箱連通形成水循環回路;清水收集槽、清水循環管、清水清洗箱連通形成水循環回路。通過設置學溶劑收集槽、清水收集槽、化學溶劑循環管、清水循環管、清水進水管、廢水排出管、化學溶劑清洗箱及清水清洗箱,形成機械自動化生產,提高了生產效率。
聲明:
“回流機構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)