本發明公開了三甲硅烷基胺的制備方法及系統,包括如下內容:將N2、H2、SiClxH4?x的混合氣體在電磁場作用下反應,0≤x≤2。本發明實現了氮氣與氫氣的非熱等離子體與氯硅烷的高效反應,在低溫低壓條件下成功制得三甲硅烷基胺,條件溫和,安全性高;且無固體副產物生產,產物分離難度小,無需固廢處理,工藝簡單,可操作性強,有利于大規模工業化生產。
聲明:
“三甲硅烷基胺的制備方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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