本發明實施例公開了一種掩模板的清洗系統和清洗方法。該掩模板的清洗系統包括:掩模板支撐設備和清洗設備,所述掩模板支撐設備用于支撐掩模板;所述清洗設備用于向所述掩模板的表面吹超聲波氣體,所述超聲波氣體為經超聲波處理的氣體;所述超聲波氣體的流速大于預設速度,以在所述掩模板表面形成空化泡,清洗所述掩模板表面的污漬。與現有技術相比,本發明實施例在確保對掩模板的清洗效果的基礎上,減少了藥液用量、減少了產生的廢液量以及降低了危險性。
聲明:
“掩模板的清洗系統和清洗方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)