1.本發明屬于玻璃技術領域,具體涉及一種易研磨的玻璃熔塊及其制備方法與應用,可適用于數碼噴印裝飾和低溫太陽能電極漿料用途。特別適用于玻璃熔塊必須粉碎到超細粒徑范圍的漿料,尤其是熔塊粉末d
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在1微米以下的漿料。
背景技術:
2.玻璃粉體燒結后具有透明度高、機械強度高、化學穩定性好等優勢,在玻璃油墨、電子漿料、電子元器件封裝等領域占有十分重要的地位。數碼噴印技術已廣泛應用于紡織、戶外廣告、包裝印刷、陶瓷等各領域,是一種數字式非接觸印刷技術,具有高清晰、短周期、個性化以及智能化等優勢,其要求漿料顆粒的最大尺寸小于噴嘴直徑的五十分之一,以免堵塞噴嘴。因此玻璃油墨和電子漿料中的玻璃粉的尺寸應該達到亞微米。
3.起熔接作用的低熔點玻璃熔塊的軟化溫度一般在200-700℃,在宏觀上具有脆性,因而在粗粉碎階段容易研磨至d
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=2-3μm,但在之后的超細研磨過程中具有微觀彈性,導致研磨困難,研磨效率較低。
技術實現要素:
4.為解決現有技術的缺點和不足之處,本發明的首要目的在于提供一種易研磨的玻璃熔塊。通過對熔塊組分進行特定調整,使得其不完整的空鍵數量增多,實現在微小顆粒范圍內仍保持部分脆性,易于研磨至d
100
<1μm,可應用于玻璃墨水及太陽能電極漿料中,且具有較好的化學穩定性。
5.本發明的另一目的在于提供上述一種易研磨的玻璃熔塊的制備方法。
6.本發明的再一目的在于提供上述一種易研磨的玻璃熔塊的應用。
7.本發明目的通過以下技術方案實現:
8.一種易研磨的玻璃熔塊,按照摩爾份數計,由以下組分組成:0.02~0.15份li2o、0.05~0.2份na2o、0.01~0.1份k2o、0.02~0.2份cao、0~0.15份bao、0.05~0.1份bi2o3、0.1~0.8份b2o3和0.2~0.7份sio2;其中,li2o、na2o和k2o的摩爾比例為1:2:1~1:3:1,一價氧化物和二價氧化物的摩爾比例為1:1~2:1。
9.優選地,所述易研磨的玻璃熔塊,按照摩爾份數計,由以下組分組成:0.05~0.15份li2o、0.1~0.2份na2o、0.05~0.15份k2o、0.1~0.2份cao、0.1~0.15份bao、0.05~0.1份bi2o3、0.1~0.8份b2o3和0.2~0.7份sio2;其中,li2o、na2o和k2
聲明:
“螢石礦浮選廢水處理工藝的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)