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產品應用：采用高真空直流電弧等離子體蒸發的工藝連續高校制備高純度納米金屬及金屬復合粉體，年產噸級高質量、高產率、高均勻混合單質納米復合金屬粉體。具有純度高(99.7%以上)，球形度高，粒度分布范圍窄，結晶度高，利于分散等特點。
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采用射頻等離子體球化處理粉末的基本原理：形狀不規則的原料粉體顆粒由攜帶氣體通過加料槍噴入等離子體矩中，被迅速加熱而熔化，熔融的顆粒在表面張力作用下形成球形度很高的液滴，并在極短的時間內迅速凝固，從而形成球形的固態顆粒。采用射頻等離子體球化處理粉末，利用射頻等離子體具有能量密度高，加熱強度大，等離子體矩的體積大，處理鋁合金材料工藝簡單等優點。由于沒有電極，不會因電極蒸發而污染產品，有利于保證粉末的高純度。
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產品應用：綜合EIGA/VIGA各自技術特點，通過更換線圈、坩堝及霧化器實現兩種制粉模式的互換。適用于鈦合金，高溫合金，銅合金，鋁合金，非晶合金等材料的粉體制備。
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本方案中介紹的VIGA真空感應熔煉惰性氣體霧化制粉設備，用于在有坩堝/有導液管的工況下，通過感應熔煉系列合金原材料獲得合金液流，通過高壓惰性氣體將合金霧化成球型粉末。本VIGA設備采用的噴嘴結構為緊耦合限制式環孔噴嘴。特點：霧化粉末具有球形度高、粉末粒度可控、氧含量低、生產成本低以及適應多種金屬粉末的生產等優點，已成為高性能及特種合金粉末制備技術的主要發展方向。能很好地滿足3D打印耗材金屬粉末的特殊要求。主要用于高溫合金、鋁合金，銅合金等粉末生產。
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產品應用：用于在無坩堝/無導液管的工況下，通過感應熔煉系列鈦合金柱狀原材料獲得鈦合金液流，通過高壓惰性氣體將鈦合金霧化成球型粉末。設備采用的噴嘴結構為非限制式漩渦環形噴射環縫噴嘴，氣體以高速從切向進入噴嘴內腔，然后以高速噴出造成一個漩渦封閉的氣錐，金屬液流在錐底被擊碎。
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產品應用：本設備是采用LMC(液態金屬冷卻的)布里奇曼凝固設備，可采用籽晶法制備單晶，主要用于制備單晶高溫合金試棒，定型凝固柱狀晶合金試樣，也可用于高熔點的材料(比如金屬間化合物)試棒類零件的定向凝固試樣制備。
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真空自耗電極電弧熔煉爐設備用途：采用壓制或感應爐熔煉的原料錠棒為電極，在真空或保護氣氛下通過電弧高溫熔煉或重熔該電極原料的真空冶金精煉設備
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利用電阻加熱產生熱能，將待成膜的物質置于真空中進行蒸發或升華，使之在基片表面析出的過程。用于制備各類金屬膜等，廣泛應用千大專院校、科研機構的科研及小批量的生產。
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分子束外延是一種新的晶體生長技術，簡記為MBE。其方法是將半導體襯底放置在超高真空腔體中，和將需要生長的單晶物質按元素的不同分別放在噴射爐中（也在腔體內）。由分別加熱到相應溫度的各元素噴射出的分子流能在上述襯底上生長出極薄的（可薄至單原子層水平）單晶體和幾種物質交替的超晶格結構。分子束外延主要研究的是不同結構或不同材料的晶體和超晶格的生長。該法生長溫度低，能嚴格控制外延層的層厚組分和摻雜濃度。
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全數字交、直流TIG焊機是一種先進的焊接設備，其額定輸出電流為300A，能夠實現交流TIG、直流TIG和混合TIG焊接。這種焊機主要應用于高效率弧焊工藝設計和焊接熔池形貌演變機理研究，為焊接工藝的優化和創新提供了重要的技術支持。
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YD-400GE2焊接是一種先進的焊接設備，其主要用途是鋼和鋁的焊接。該設備能夠提供額定輸出電流400A，送絲直徑范圍在0.8-1.6mm之間，適用于多種焊接需求。保護氣氛可以是CO?、Ar、Ar+CO?、Ar+O?，這為焊接過程提供了靈活性，能夠適應不同的焊接條件和材料要求。這種焊接設備在冶金領域的應用，特別是在汽車輕量化領域，通過充分發揮高強度鋼板和鋁合金的優勢，實現節能減排的目的，具有重要的實際意義。
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SSJ-Ⅱ型1600℃高溫箱式實驗熱處理爐是一種在冶金領域中應用廣泛的設備，它能夠在最高使用溫度1600℃的條件下進行工作。該設備采用硅鉬棒作為發熱元器件，具有快速的溫控速率，能在室溫至1600℃的條件下在60分鐘內達到所需溫度，同時保持溫控精度在±2℃。這種精確的溫度控制能力對于進行高溫燒結、金屬退火、化工、冶金、陶瓷等多個領域的實驗和生產至關重要。
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SSJ-13A型1300℃箱式實驗熱處理爐是一種為冶金領域設計的高效熱處理設備。該爐能夠滿足最高使用溫度1300℃的需求，采用硅碳棒作為發熱元器件，確保了設備在高溫下的穩定性和可靠性。溫控速率在室溫至1300℃的條件下不超過40分鐘，而溫控精度達到±2℃，這使得該設備能夠精確控制加熱過程，滿足不同材料和工藝的需求。此外，該設備的額定功率為8kw，工作電壓為380V，這些參數使得設備在工業應用中具有較高的能效比和操作便利性。
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模擬熱處理爐是一種在冶金領域中應用廣泛的設備，它具備加熱和冷卻兩路控制系統，能夠實現高控溫精度和熱工藝模擬性能。這種設備可以廣泛用于金屬材料的熱處理工藝試驗和對工藝的評價，對于優化熱處理工藝、提高材料性能具有重要意義。模擬熱處理爐的最高使用溫度可達1600℃，發熱元器件采用硅鉬棒，這種材料能夠在高溫下保持穩定，確保了加熱過程的可靠性。溫控速率在滿載時達到400℃/h，溫控精度為±3℃，這使得模擬熱處理爐能夠精確控制加熱過程，滿足不同材料和工藝的需求。
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高頻等離子感應加熱設備是一種利用真空管式高頻振蕩器在輸出工作線圈上產生較強的高頻、高壓電磁場的設備。這種設備使定向流經工作線圈內的氬氣、氧氣、氮氣、壓縮空氣迅速電離點燃后形成高溫等離子火炬，亦稱射頻等離子炬，其核心溫度可達20000℃。在冶金領域，高頻等離子設備廣泛應用于耐高溫石英玻璃沉積、制備難熔金屬納米粉體，氧化物、氮化物、碳化物等納米粉體及上述粉末的球化處理，同時也應用于多晶硅的區熔、拉伸等工藝。設備功率范圍從8KW到200KW，頻率則在1MHZ到6MHZ之間。
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在冶金實驗領域，精準、高效的納米金屬粉體制備是探索新材料性能與工藝的關鍵。實驗型電弧等離子體金屬納米粉制備系統為冶金研究提供了理想的解決方案。該設備能夠制備納米級金屬粉體，涵蓋稀土材料在內的絕大多數金屬，且對原材料形貌尺寸無限制，突破了傳統冶金實驗方法的局限。其由高真空獲得與測量系統、粉體制備系統、粉體收集系統及電氣控制系統組成，高真空機組采用復合分子泵及機械泵，制備室極限真空度可達≤5.0×10?3Pa，收集室極限真空度≤8.0×10?3Pa，為冶金實驗中的粉體生成提供穩定的真空環境，確保粉體的純度和質量。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月19日 ~ 21日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
