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OTF-1200X-V-H4是一款符合UL/TUV標準的氫氣管式爐，專為冶金領域中的磁性材料氫爆處理及氫氣環境下的熱處理設計。該設備配備5個獨立溫控系統的溫區，爐管采用310不銹鋼材質，尺寸為Φ100mm×1500mm，能夠滿足多種材料的高溫處理需求。此外，設備內置3M氫氣探測器，一旦檢測到氫氣泄漏，將自動關閉進氣閥和出氣閥，確保實驗過程的安全。其最高溫度可達1200℃，適用于對氧敏感的金屬材料和磁性材料的高溫處理，是高校、科研機構和企業實驗室進行材料研究和開發的理想設備。
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OTF-1200X-III-H8是一款符合UL/TUV標準的10英寸氫氣管式爐，專為冶金領域中的Ti合金退火和對氧敏感材料的熱處理設計。其爐管采用NiCrAl合金材質，具有優異的耐高溫和耐腐蝕性能，爐體設計有3個加熱區，最高溫度可達1250℃。該設備能夠在高真空或氫氣環境下進行熱處理，特別適用于對材料微觀結構和性能有嚴格要求的冶金實驗，為高性能金屬材料的研發和生產提供可靠的高溫處理解決方案。
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GSL-1100X-III-D11是一款專為大面積材料生長設計的三溫區大型雙管爐，最高溫度可達1100℃。其獨特的雙管設計通過CVD方法在箔材上實現大面積（約7000cm2）材料生長，箔材纏繞在內管外壁上，送管裝置可輕松將內管送入或取出外管。該設備不僅適合大面積生長石墨烯和柔性電極材料，還可用于冶金領域中大面積薄膜材料的制備和研究，為開發高性能復合材料和新型電極材料提供有力支持。
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OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃雙溫區紅外加熱快速熱處理爐，專為冶金及材料科學實驗設計。其爐管直徑為4英寸，樣品臺滑軌周圍嵌有可伸縮波紋管，可在真空或氣氛保護環境下實現樣品的快速移動。該設備最大升溫速率達到50℃/s，最大冷卻速率達到10℃/s，能夠高效完成快速熱處理任務。此外，它還可通過HPCVD方法生長二維晶體，一個加熱區用于蒸發固體原料，另一個加熱區用于樣品沉積，特別適用于冶金領域中二維材料的生長和金屬薄膜的制備。
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RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速熱處理（RTP）管式爐，專為半導體基片、太陽能電池及其他樣品（尺寸可達3英寸）的退火工藝設計。該設備配備三路浮子流量計和機械泵，真空度可達10?3 Torr。采用9kW紅外燈加熱，最快升溫速度可達100℃/秒，配備30段精確溫度控制，精度為±1℃。此外，設備還配有RS485接口和控制軟件，可通過計算機控制運行并顯示溫度曲線。其安裝尺寸為600mm×600mm×597mm，重量為210lbs。在冶金領域，該設備可用于快速熱處理金屬材料，優化材料的微觀結構和性能。
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GSL-1100X-RTP50是一款通過CE認證的1100℃快速熱處理爐，專為高效熱處理實驗設計，特別適用于冶金領域。其配備50mm外徑×44mm內徑×304.8mm長度的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達1100℃。右側法蘭處安裝有滑軌，可手動移動爐管，實現快速加熱和冷卻。通過預熱爐子并快速插入爐管，可實現最快加熱；樣品加熱后移出爐管進行強冷，冷卻速率在真空或惰性氣體環境下可達10℃/s。這種快速升降溫能力使其成為研究金屬材料熱處理工藝、相變行為及快速結晶的理想設備，尤其適合高校、科研機構和企業實驗室進行低成本、高效的材料實驗。
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OTF-1200X-50S-SL是一款通過CE認證的1200℃小型滑軌快速熱處理（RTP）爐，專為高效熱處理實驗設計。其配備外徑50mm、長度1000mm的石英管，爐底安裝滑軌，可實現快速加熱和冷卻，最大升溫速率為100℃/min，真空或惰性氣體環境下的冷卻速率可達15℃/s。這種快速升降溫能力使其在冶金領域中可用于研究金屬材料的相變、熱處理工藝優化以及快速結晶等實驗，是高校、科研機構和企業實驗室進行材料研究和開發的理想設備。
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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型雙爐體滑動管式爐，專為冶金領域中的材料蒸發/升華和薄膜沉積實驗設計。其配備Φ50×1400mm的石英管和不銹鋼密封法蘭，最高工作溫度可達1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現快速加熱（最大升溫速率100℃/min）和冷卻，顯著提高實驗效率。此外，該設備還可選配電動滑軌、質量流量計（MFC）控制的供氣系統和等離子射頻電源，用于搭建TCVD系統，滿足更復雜的材料合成和薄膜制備需求。
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OTF-1200X-III-80SL是一款通過CE認證的1200℃三溫區滑軌式管式爐，專為快速熱處理實驗設計。其配備直徑80mm、長度94mm的石英管和法蘭，爐底安裝滑軌，支持手動滑動操作。該設備加熱和冷卻速率最高可達100℃/min，在真空或惰性氣體環境下可實現10℃/s的快速升降溫，能夠顯著提高實驗效率并降低能耗。在冶金領域，該爐可用于快速熱處理金屬材料，研究材料在高溫下的相變和微觀結構變化，是高校、科研機構和企業實驗室進行材料研究和開發的理想選擇。
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RC-Ni-100是一款專為高溫高壓冶金實驗設計的100ml反應釜，采用鎳基高溫合金鋼制作，具有極高的蠕變強度和抗氧化性。該設備最高工作溫度可達1100℃，在該溫度下可承受最高壓力為4MPa，非常適合在高壓氧環境下對金屬樣品進行熱處理，以及通過水熱法合成高性能冶金材料。其優異的耐高溫高壓性能，使其成為冶金領域研究和開發新型材料及工藝的理想工具。
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GSL-1800X-PGEP是一款專為納米結構氧化物合成設計的多功能系統，廣泛應用于冶金領域。該系統由超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成，通過前驅體霧化、高溫加熱和納米顆粒收集三個步驟，實現納米材料的精確制備。其獨特的設計能夠精準控制顆粒尺寸、形態以及納米/微粒結構，為冶金研究提供了一種先進的實驗手段，尤其適用于開發高性能納米復合材料和新型冶金催化劑，助力冶金工藝的創新與優化。
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VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔煉/鑄造爐，適合在氣氛保護環境下熔煉各種合金，最高溫度可達1200℃。該設備采用封閉腔體設計，可有效防止樣品在熔煉和澆注過程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩堝直徑為60mm，配備電阻絲加熱和石墨攪拌棒，能夠快速熔煉金屬，僅需6-8分鐘。此外，該設備操作簡單，只需設置鑄造溫度、添加樣品并擠壓操縱桿即可完成澆注。設備安裝尺寸為770mm×460mm×460mm，重量為54kg，配備雙極旋片真空泵，所需氣體流量為5L/min。
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IMCS-1700HP是一款高壓氣氛控制感應熔煉/鑄造/造粒爐，最高工作溫度可達1700℃，腔體可承受氣壓為1MPa，適用于處理1kg合金樣品。該設備采用三相380VAC電源，最大輸入功率為25kW，配備感應線圈尺寸為170mm（內徑）×110mm（高），并具備自動水壓、過熱和功率過高保護功能。熔煉腔體采用SS304不銹鋼制作，帶有水冷夾層，確保工作時表面溫度低于60℃，并配備安全卸壓閥。溫控系統采用PID方式控溫，可設置30段升降溫程序，控溫精度為±5℃，連續工作溫度范圍為500℃~1600℃，短時間內可達到1700℃。
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OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區帶有升降雙通道進料系統的共蒸發多層沉積管式爐，通過升降雙通道進料系統可裝載4個不同材料的蒸發坩堝舟，并且可一次同時送入兩個蒸發坩堝源進入管式爐中進行共蒸發或反應蒸發。雙溫區管式爐可以實現快速加熱，并且通過對各個溫區設置不同的加熱溫度可以創建不同的溫度梯度從而實現蒸發沉積。雙通道進料系統可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發料的坩堝一同推進拉出，實現共蒸發或者反應蒸發，特別適用于多層二維晶體材料的制備。
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OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4溫區管式爐，所有電器元件都通過了UL / MET / CSA認證。此款管式爐最高工作溫度1100℃，共有4個溫區，每個溫區長度為100mmL爐管直徑為25mm或50mm,并配有一套不銹鋼密封法蘭，可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理。每個溫區由獨立的溫控系統控制，都可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃。
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OTF-1200X-4-R-II-AF是一款雙溫區回轉管式爐，安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中，此過程可在氣氛保護環境下進行，可實現用連續CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設計主要是在鋰離子電池的陰極材料（如LiFePO3, LiMnNiO3）上包覆導電層，同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。
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VTF-1600X-B下裝載爐是一款高性能的高溫實驗設備，最高溫度可達1700℃，額定溫度為1600℃，推薦升溫速率為≤10℃/min。該爐采用下開門設計，配備兩個爐門和可移動加熱平臺，通過升降平臺和爐門配合，可在加熱爐不降溫的情況下連續燒結物料，顯著節省燒結時間。其爐膛容積為13L（直徑280mm×深度300mm），采用B型雙鉑銠熱電偶測溫，控溫精度達±1℃。設備配備先進的電氣控制系統，包括30段程序溫控器、觸摸屏操作界面，具備超溫、偏差、斷偶報警功能，以及RS485通訊接口，可實現數據記錄與遠程監控。
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KSL-1700X-A1-W高溫箱式爐是一款CE認證的可視臺式高溫馬弗爐。該爐由優質氧化鋁纖維絕緣材料和1800級MoSi2加熱元件組成，高精度SCR（硅控整流器）和溫度控制器配套使用測量和調節溫度，精度為+/-1°C，最高溫度可達1700°C。帶有石英觀察窗口，可在工作過程中隨時觀察物料狀態，是專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業對金屬、非金屬及其化合物材料進行燒結、融化、分析而研制的專用設備。
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OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型雙溫區旋轉爐，配備Φ50異型石英管，專為實現粉體材料燒結的均勻性而設計，尤其適用于鋰離子電池陰極材料表面導電層的CVD包覆工藝。其安裝尺寸為L1000mm×W300mm×H390mm，重量僅18kg，結構緊湊、輕便易用，能夠有效提升材料處理的均勻性和效率，是高校、科研機構和企業實驗室進行材料研發和工藝優化的理想選擇。
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月19日 ~ 21日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
