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產品主要針對在真空或者保護氣氛下對樣品的熱處理，優質的爐膛材料和穩定的溫度控制系統，可保證實驗數據的可靠性;產品采用新型陶瓷纖維材料作為爐膛材料，爐管材質優良，爐管兩端不銹鋼法蘭密封，可在真空下工作，法蘭上有進氣口和出氣口，可通入保護氣體，精密針型閥可調節進氣流量。爐蓋開啟式結構，爐體兩端齒輪電動旋轉結構，爐管轉速可調，溫場均勻，非常適合粉體材料的熱處理。
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自動進出料回轉管式爐由加熱系統、自動回轉機構、自動進出料套件和爐體傾斜機構組成，爐管可360°旋轉，轉速可調;爐管前端配置自動旋轉加料裝置，加料裝置可根據產量選配和加料速度的在線調節，爐體可傾斜15°，爐管末端配置有物料收集裝置，可實現產品研發或產品中試等連續化小批量生產，該產品主要應用于無機非金屬化合物材料、鋰電正負極材料、陶瓷材料、新能源和新材料行業的顆粒粉末燒結熱處理專用設備。
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真空連續進料回轉管式爐由加熱系統、自動回轉機構、自動進出料套件、真空密封系統和爐體傾斜機構組成，爐管可360°旋轉，轉速可調;爐管前端配置自動旋轉加料裝置，加料裝置可根據產量選配和加料速度的在線調節，爐體可傾斜15°，爐管末端配置有物料收集裝置，可在真空和氣氛下工作，可實現產品研發或產品中試等連續化小批量生產，該產品主要應用于無機非金屬化合物材料、鋰電正負極材料、陶瓷材料、新能源和新材料行業的顆粒粉末燒結熱處理專用設備。
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1200℃-PECVD管式爐系統(等離子增強化學氣相沉積系統)由管式爐、真空獲得、流量控制和射頻電源四大模塊組成， 本設備借助13.56Mhz的射頻輸出使含有薄膜組成原子的氣體電離，在真空腔體內形成等離子體，利用等離子的強化學活性，改善反應條件，使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應，從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技術，最終得到基片上沉積出所期望的薄膜。
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1700℃三溫區立式管式爐通過CE認證，額定溫度1700℃，爐管采用剛玉管，三個溫區采用獨立的控制系統，通過溫控調節可形成三個不同的梯度溫場，爐蓋開啟式結構，PID30段程序控溫，適用于精密陶瓷等新材料的熱處理，加熱區長度可以按照客戶的實際需求定制。
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實驗室1700℃立式管式爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。
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立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。
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1700℃高溫沉降爐可實現懸浮在流體中的固體顆粒下沉而與流體分離的過程，爐頂裝有連續螺旋粉料進料系統，爐底裝有收集裝置，應用于煤粉的富氧燃燒試驗和利用重力沉降的固氣分離試驗。
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STGZ-60-12電磁掛樣立式自動淬火爐，額定溫度1200℃，可在真空和氣氛保護下工作，法蘭頂部裝有電磁鐵，電磁鐵下方有金屬的物料吊籃，在熱處理過程中可通過按鈕釋放電磁鐵，吊籃和物料會自由落體向下運動掉入下方的水槽或者油槽內，對物料進行快速的冷卻，可用于研究材料相轉變和微結構。
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1700℃三溫區立式管式爐通過CE認證，額定溫度1700℃，爐管采用剛玉管，三個溫區采用獨立的控制系統，通過溫控調節可形成三個不同的梯度溫場，爐蓋開啟式結構，PID30段程序控溫，適用于精密陶瓷等新材料的熱處理。
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1700℃立式管式爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。
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1700℃氣氛箱式爐主要為高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室提供高溫熱處理環境，可在應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域。
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氣氛箱式爐（尾氣處理）在材料的熱處理過程中，可以通入氮氣、氬氣、氧氣等保護氣體，用于碳材料、金屬材料、生物質材料的熱處理，也可用于鋰電池三元材料的燒結。
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