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HT-TL-CGF是一款采用4電弧的提拉法單晶生長爐（采用Ar氣電弧對樣品熔融，提拉裝置提拉），其溫度可達3000℃。腔體為304不銹鋼腔體（帶有水冷夾層），真空度可達10-5Torr。此款單晶爐特備適合生長高熔點的單晶，如Ti單晶，YSZ，SIC和CeRh2Si等等。
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臺車升降式高效燒結爐，是同時實現脫脂、燒結和廢氣處理的一款爐型。采用臺車升降、爐體雙層設計的結構。爐膛采用四面加熱（前后左右），加熱原件分布在爐膛四周，從而實現爐內的良好均勻性。爐膛內襯采用高溫陶瓷纖維板，原料為氧化鋁多晶纖維，多層方式設計，降低熱損，提高加熱效率。
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小型分體式磁控濺射儀是一款小型的單靶磁控濺射鍍膜儀，配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭。射頻等離子電源和高壓直流電源兩種電源可選，用于鍍膜各種薄膜材料。單靶射頻磁控濺射儀體積小巧，功能出色、配置齊全，兼容超凈間，性能穩定?？捎糜谥苽涓哔|量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學、航空航天等領域。
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HT-1800C是一款高溫管式爐，其內膛中嵌有Zr02的內襯，加熱元件采用硅鉬棒。儀器標配中含有一套不銹鋼真空法蘭(法蘭上安裝有不銹鋼針閥和機械壓力表)和一根高純氧化鋁爐管(60mmO.Dx 1000 mmL)?？販叵到y采用PID50段程序化控溫，控溫精度可達到±1℃。
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HT-1600C是一款高真空超潔凈氣氛爐，最高加熱溫度可達1600℃-1800℃，極限真空度為10-5Torr(需配套分子泵使用)，全水冷不銹鋼爐體內采用鎢帶加熱，外層為鎢多層反射板進行隔溫，爐內為全金屬材質組成，擁有高潔凈度，低放氣量的優點，使得該爐在高溫下可獲得較高真空度，并目擁有很高的潔凈度。
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HT-2300C是一款感應加熱的臥式管式爐，最高溫度可達2300℃，可以在真空和氣氛保護下使用，可以在內部放置一根?26mm的剛玉管（最高耐溫1700℃），用于在空氣、水蒸氣或氧氣氣氛下使用。
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HTAF-1700系列箱式氣氛爐適用于高校、科研院所、工礦企業做箱式氣氛爐應用于適合各類大專院校實驗室、工礦企業化驗室，供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。高溫燒結、金屬退火、新材料開發、有機物質灰化、質量檢測之用，也適用于軍工、電子、醫藥、特種材料等生產和實驗。
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化學氣相沉積系統(CVD)為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)， 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命。HTTF-1200-V-PECVD多路混氣真空管式爐PECVD系統廣泛應用于沉積高質量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金剛石薄膜、硬質薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)等。
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本系列升降爐均系周期作業式。設計用于熔化高純度玻璃、燒結和焙燒陶瓷、磁性材料、電子元件等材料的高溫燒結。
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自動噴石墨乳設備可以減少工人操作的環節和工作量，降低靠近鍛壓設備和高溫鍛件的次數，避開煙塵和鍛件表面物體迸濺的區域，進而保護工人不受工作中的意外傷害。自動模具潤滑冷卻設備經過多次迭代升級，新一代脫模劑噴涂設備--自動模具潤滑冷卻設備在安全性能上做了充分的考慮，從結構上進行了升級，避免安全風險，同時進行了智能升級，可以跟鍛壓設備進行數據聯動，配合鍛壓設備節拍自行噴涂脫模劑，還可以進行噴涂量、噴涂時間、霧化效果、噴涂位置、節拍時間等調節，安裝方便，使用便捷，即安全又效率高。
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河南安鍛智能裝備有限公司專注于鍛造設備設計、自動化鍛造生產線設計與安裝、鍛造生產線改造、鍛造技術咨詢等服務;具備各種鍛壓設備和自動化生產線從設計-加工-裝配-試車-質檢一條龍生產能力。 已經為數十家國內外鍛造企業設計了全自動鍛造生產線，通過詳細的溝通，縝密的分析，選擇適合客戶產品的鍛造生產工藝，同時為客戶的鍛造生產提供技術服務，提升了鍛造生產效率、材料利用率、產品合格率，在國內外鍛造行業中贏得了廣泛的認可，用戶遍布汽車、工程機械、航空航天、五金工具、船舶、石油、風電等領域，產品銷售到國內并出口到德國
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安鍛智能直驅電動螺旋壓力機，是在電動螺旋壓力機的基礎上進行能效升級，鍛造精度升級，采用交流永磁同步直驅伺服電機直接驅動飛輪/大齒輪，取消了傳統的電動機和齒輪或皮帶傳動系統，避免了傳統電動機和齒輪壽命低的弱點，較于普通電動螺旋壓力機，直驅電動螺旋壓力機的結構緊湊，傳動環節少，效率提升、能量控制精度提升、鍛造頻率高、噪音小、潤滑性能好、機械故障少、操作簡單、維護保養方便、設備使用壽命長、工藝適應性強
2025年09月12日 ~ 14日 
2025年08月22日 ~ 24日 
2025年08月21日 ~ 23日 
2025年08月18日 ~ 20日 
2025年08月15日 ~ 17日 
