SZ-100V2 激光粒徑分布分析儀
簡介
HORIBA 推出了SZ-100V2納米顆粒分析儀。此儀器通過簡單操作即可對納米顆粒進行多參數分析!以技術簡單而精確地呈現納米粒子尺寸及分散體系的穩定性,為您開啟納米科技前進之門!
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀產品介紹:
一臺簡潔小巧的裝置能同時實現對納米粒子三項參數的表征:粒徑、Zeta電位和分子量。
納米技術的研發是一個持續不斷的過程,在分子和原子水平上控制物質以獲得新、好、先進的材料和產品。為了得到效率高性能好的產品,并減少能量的消耗,HORIBA 推出了SZ-100V2納米顆粒分析儀。此儀器通過簡單操作即可對納米顆粒進行多參數分析!以技術簡單而精確地呈現納米粒子尺寸及分散體系的穩定性,為您開啟納米科技前進之門!
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀產品特點:
粒徑測量范圍 0.3nm ~ 10μm
SZ-100V2系列采用動態光散射原理(DLS)測量粒徑大小及分布,實現了超寬濃度范圍的樣品測量,不論濃度是ppm級還是高達百分之幾十,均可準確測量??墒褂檬惺蹣悠烦?。測量微量樣品也極為方便。
Zeta電位測量范圍 ?500 ~ +500mV
使用HORIBA的微量樣品池,樣品量僅需100 μL。通過Zeta電位值可以預測及控制分散體系的穩定性。Zeta電位越高意味著分散體系越穩定,對于配方研究工作意義重大。
分子測量范圍 1×103 ~ 2×107
通過測量不同濃度樣品的靜態散射強度并通過德拜記點法計算絕對分子質量(Mw)和第二維利系數(A2)。
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀的智能化和學習能力可以快速為您確定納米粒子的特性!
SZ-100V2系列可測量的樣品濃度范圍很廣,所以幾乎無需對樣品進行稀釋和其他處理。獨特的雙光路系統(90°和173°)設計,既能對高濃度樣品進行測量,如釉漿和顏料,也能測量低濃度樣品,如蛋白質和聚合物。
將表征納米粒子的三大參數的測量融于一體:粒子直徑、Zeta電位和分子量。
HORIBA開發的一次性Zeta電位測量樣品池可杜絕樣品污染。專用超微量樣品池(最小容量100 μL)簡單易用,且適合分析稀釋的樣品。
HORIBA開發的Zeta電位專用石墨電極,可用于測量強腐蝕性的高鹽樣品。
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀測量原理:
粒徑測量原理
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀采用動態光散射技術測量粒徑,通過測量粒子的散射光強度隨時間的波動。納米粒子的布朗運動引起光強的波動,對其進行統計分析可與粒子的擴散相聯系。由于布朗運動的激烈程度與粒徑大小顯著相關,從而可以建立粒徑與散射光強度波動的關系。
Zeta電位測量原理(激光多普勒電泳法)
處于懸浮液中的納米粒子和膠體粒子大多表面帶有電荷。當電場作用于液體時,帶電粒子將會在電場的影響下運動。運動的方向及速度與粒子的帶電量、分散介質和電場強度有關。通過觀察散射光的多普勒頻移從而測量粒子的運動速度。粒子的運動速度與粒子剪切面上的電位( 即Zeta 電位) 成正比,因此可以通過測量粒子在電場作用下的運動而得到粒子的Zeta 電位。
分子量測量原理
HORIBA SZ-100V2 納米顆粒分析儀采用兩種方法來測量大分子如聚合物、蛋白質和淀粉等的分子量。第一種方法采用動態光散射得到的粒徑信息和Mark Houwink 方程。第二種方法是德拜記點法。