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    等離子體射流陣列均勻處理水溶液裝置及處理方法

    1069   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-19 02:40:07
    一種等離子體射流陣列均勻處理水溶液的裝置,等離子體射流陣列結構包括多個結構相同的等離子體射流裝置;等離子體射流裝置包括絕緣介質一,絕緣介質一的上部與下部均環繞有金屬環一與金屬環二;電源包括高壓極與地極,高壓極、地極分別與金屬環一、金屬環二連接。等離子體射流陣列結構可用于大面積的水溶液處理;噴泉式的水柱保證水溶液處理的均勻性和連續性;等離子體射流陣列結構與水處理裝置的水溶液相分離,兩者之間的距離可調節,等離子體放電不受水溶液的影響,放電具有穩定性;應用范圍廣泛,可用于工業廢水、污水處理,水溶液消毒滅菌以及制備消毒水等,且不會產生二次污染;結構簡單,成本低,易操作,產品易擴大,易于工業轉化。
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