本發明涉及半導體技術領域,公開了一種精密半導體清洗裝置,包括箱體、控制器、水箱、半導體進出口、廢水出口;箱體的內部左側固定安裝有氣缸腔,氣缸腔的內中部固定有氣缸,氣缸的右側輸出端設置有穿過氣缸腔的橫向的活塞桿,活塞桿的末端固定安裝有旋轉安裝塊,旋轉安裝塊的右側轉動連接有與活塞桿同軸心的連接桿,連接桿的末端固定安裝有夾持塊,箱體的內部右側固定安裝有旋轉電機腔,旋轉電機腔的內中部設置有旋轉電機,旋轉電機的左側輸出端轉動連接有穿過旋轉電機腔的旋轉桿,旋轉桿的末端也固定安裝有夾持塊。夾持塊的一側設置有夾持口,位于夾持塊上方的箱體的內頂部向下設置有兩組噴水口。本發明沖洗速度快,全面,精度高,效果好。
聲明:
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