本發明涉及印跡聚合物,具體涉及一種銅離子印跡殼聚糖復合材料的制備方法。本發明的制備方法包括以下步驟:(1)Al2O3表面活性SiO2層的沉積;(2)對沉積了表面活性SiO2層的Al2O3硅烷化;(3)制備Cu2+-殼聚糖配合物;(4)制備銅離子印跡殼聚糖復合材料模板;(5)洗脫、洗滌、干燥。本發明操作簡單易行,制備的該復合材料能夠有效地去除廢水中的Cu2+,并且能耗低,沒有二次污染。
聲明:
“銅離子印跡殼聚糖復合材料的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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