本發明公開了一種芯片生產線的鎳廢水處理方法,屬于芯片生產廢水處理技術領域。所述廢水處理方法包括廢水收集、廢水蒸發、廢氣處理和固體廢渣處理;所述廢水蒸發是在蒸發室內通入高溫氣體進行加熱蒸發,蒸發時間為12~16h,蒸發溫度為180~220℃。本發明通過物理蒸發方法將廢水進行分離后,分別處理,具有方法簡單、處理效果高、不使用化學試劑,對環境友好的優點。
聲明:
“芯片生產線的鎳廢水處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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