工藝流程簡述?將二辛基氯化錫加入水解反應釜內,從高位槽加入正庚烷,蒸汽加熱至?65℃,開始滴加10%濃度的堿溶液,大約3小時加完;靜置分層,上層轉至二次反應釜中,下層分離出的水相加入固體離子膜燒堿,反復套用,多次套用在水相中產生氯化鈉固體,將水相離心,分離出氯化鈉的固體。再滴加堿溶液在二次反應釜?50℃反應2小時,結束后靜置、分層;轉至蒸餾釜,蒸出正庚烷(98℃)后,離心,在離心過程中水洗。濾餅經烘干、粉碎、計量、包裝為產品。離心廢水送至污水處理裝置處理。反應涉及的方程式為(以二辛基氯化錫計反應轉化率99.9%,收率為99.6%):
聲明:
“二辛基氧化錫生產工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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