本發明涉及一種單異氰酸酯的制備方法及系統,該方法使用過量的光氣與對應的胺進行光氣化反應,獲得的反應液經過氯化氫氣提脫光氣后,實現光氣與異氰酸酯的完全分離,達到過量光氣能夠循環使用的目的。在對脫完光氣后的反應液進行裂解獲得的裂解氣體用惰性溶劑進行捕汲,獲得對應異氰酸酯的溶液,后續分離可獲得合格的異氰酸酯。使用該方法制備單異氰酸酯的過程具有高收率和低固廢量的特點。
聲明:
“單異氰酸酯的制備方法及系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)