本實用新型公開了一種金屬硅還原爐內廢氣真空置換裝置,包括底座,所述底座上表面的左側設有還原爐,所述還原爐右側面的下部連通有抽氣管的一端,所述抽氣管的另一端與真空泵的抽氣口相連通,所述真空泵右側面的出氣口連通有出氣管的一端,所述出氣管的另一端與箱體相連通,所述箱體內壁上固定連接有隔板,所述隔板的下方設有第一噴淋機構,所述隔板的上方設有第二噴淋機構,所述箱體的右側并位于底座的上表面固定連接有堿液供給箱,通過設有第一噴淋機構、第二噴淋機構和堿液供給箱的設置,可對產生的廢氣進行兩次噴淋,使廢氣的處理效果更佳,避免由于對廢氣的處理不充分給環境造成了危害。
聲明:
“金屬硅還原爐內廢氣真空置換裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)