1.本發明涉及廢水回收再利用技術領域，尤其涉及一種研磨廢水的處理裝置和處理方法。
背景技術：
2.研磨廢水是一種統稱，在芯片行業的晶棒、晶圓的制造和封裝測試過程中，需要經過切割、研磨、劃片和減薄等工藝，產品經過清洗后會產生大量的沖洗廢水，該類廢水的主要特點為：高固含量：一般顆粒(ss)含量為300～2000ppm，主要成分以sio2為主，還有一些硅酸鹽、氧化鈣、氧化鎂以及三氧化二鋁等；粒徑極細：該類廢水的顆粒粒徑常規在0.1～100μm之間，極難沉淀；低有機物：該類廢水的有機物含量較低(0.5～3mg/l)，通常只含有少量的表面活性劑；低鹽分：由于該類廢水大部分是采用純水或者高純水沖洗，所以該廢水的電導率極低。同時，所述研磨廢水中的cod含量《50mg/l，ph為6～8，石油類物質的含量《1mg/l。
3.目前，針對該類廢水，常用的處理工藝如圖1所示，其是將該類廢水依次經過調節池、反應池、助凝池和沉淀池進行處理后，得到的沉淀經過污泥濃縮池，得到的沉淀和廢水的混合液依次經過清水池和酸堿廢水系統進行處理。但是該工藝面臨以下問題：1、達不到直排標準需要再處理，造成資源浪費；2、藥劑成本大：由于研磨液呈現出較強的穩定性需要加入大量的絮凝劑才能起到絮凝作用，這無疑增加了企業的投入成本；3、污泥量大：隨著絮凝劑的大量加入，產生的污泥量也隨之增加，使得后續的污泥處理難度加大。由此可見，傳統的處理工藝成本高、處理難度大。
技術實現要素：
4.本發明的目的在于提供一種研磨廢水的處理裝置和處理方法，所述處理裝置可以縮減處理工藝成本，降低處理難度。
5.為了實現上述發明目的，本發明提供以下技術方案：
6.本發明提供了一種研磨廢水的處理裝置，包括原水池1、反應池2、濃縮池3、有機管式膜4、產水池5、污泥池6和壓濾機7；
7.所述原水池1、反應池2、濃縮池3、有機管式膜4和產水池5依次管路連接；
8.所述原水池1、反應池2、濃縮池3、污泥池6和壓濾機7依次管路連接并形成循環回路。
9.優選的，所述原水池1和反應池2之間設置有原水泵8；
10.所述反應池2設置有沉淀劑的加藥進口。
11.優選的，所述有機管式膜4通過管路回連濃縮池3。
12.優選的，所述濃縮池3和有機管式膜4之間通過管路依次連接有供料泵9和循環泵10；
13.所述有機管式膜4通過管路回連循環泵10。
聲明：
“研磨廢水的處理裝置和處理方法與流程” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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編輯：中冶有色網
來源：江蘇峰科達技術股份有限公司
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2025年07月23日 ~ 26日 
