VIM-HC真空懸浮熔鑄爐是在真空條件下將所熔煉的金屬或非金屬固體爐料,置于感應線圈所形成的高頻或中頻交變電場中,并利用通水冷卻的金屬坩堝作為磁場的“聚能器”,使能源磁場能量集中于坩堝容積空間,進而在爐料的表層附近形成強大的渦電流,一方面釋放出焦耳熱使爐料溶化,另一方面形成洛侖茲力場使熔體懸浮(或半懸浮)和攪拌。由于磁懸浮的作用,使熔體與坩堝內壁脫離接觸,這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導散熱改變為輻射散熱,從而導致散熱速度聚減。使熔體可達到很高的溫度,(1500℃—2500℃)宜于熔煉高熔點金屬或其合金。
真空感應高溫石墨化爐是在真空或惰性氣體條件下利用中頻電源通過螺旋型的水冷感應線圈產生交變磁場,使感應線圈內的石墨坩堝產生感應電動勢,中頻電流就在坩堝內形成環流,從而使坩堝產生高溫并輻射到工件,使其達到所需要的溫度。該爐主要用于碳素制品的石墨化或氣相沉積石墨。
真空感應化學氣相沉積爐是在真空或保護氣氛下,利用中頻感應原理將置于感應線圈內的石墨坩堝加熱,也可電阻加熱,石墨坩堝中放入被制備的碳-碳復合材料。在一定溫度下將坩堝加熱到規定溫度,并通入稀釋的碳氫氣體。