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> 真空冶金設備
CVD(G)系列高溫真空氣氛管式爐專門設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫,優質硅鉬棒加熱,優質99剛玉管爐膛,氣體采用浮子流量計流量計控制。進口單回路智能溫度控制儀控制,有效的實現溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩定、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長等特點,是理想的科研設備。
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