瓦斯放散初速度測定儀是一款全自動的實驗設備,主要用于煤與瓦斯突出危險性預測中主要指標——瓦斯放散初速度△P;考查研究煤的瓦斯放散特性,連續測定一個大氣壓下吸附高濃度甲烷后,0-60秒的瓦斯放散初速度。 瓦斯放散初速度測定儀的核心元件采用進口傳感器,完全實現計算機檢測控制,整個測試過程只需根據計算機界面提示按動相應鍵就可完成;解決了人為因素對實驗結果帶來的誤差;測試后的結果以曲線報表的形式打印輸出
WY-98A全自動瓦斯吸附常數測定儀依據GBT 19560-2008 《煤的高壓等溫吸附試驗方法》標準,是我司研發制造的智能化裝備。該儀器可測定煤對瓦斯的吸附常數(a,b 值),該指標廣泛應用于瓦斯含量快速測定、礦井瓦斯壓力計算、煤的吸附特性分析等實驗過程,是礦井瓦斯基礎參數重要指標。WY-98A全自動瓦斯吸附常數測定儀自動化控制瓦斯吸附實驗過程,軟件擬合等溫高壓吸附曲線,是現代化礦井安全生產瓦斯實驗室分析儀器
本機按JC/T960-2022《水泥膠砂程度自動壓力試驗機》試驗要求制作,來用微機控制,具有等速試驗力,等速應力,試驗力保持雙工位的試驗空間等控制模式技計算機實現了試驗數據。試驗曲線的屏幕顯示,磁盤存儲,數據庫管理等功能,連接打印機可輸出實驗數據報告,產品具有精度高,可靠性高,操作方便等特點。
GF-5700手持礦石分析光譜儀可分析銅 鐵 鈦 釩 鉻 錳 鈷 鎳 鋅 鍶 鋯 鉭 鈮 鉬 錫 銻 鉿 鎢 鉛等自然礦石;暫時不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O,Mg, S, P, Si;現場快速分析各種金屬礦石化學成份及品位,滿足國內外各種條件差、沒有分析試驗室礦山單位,用于快速分析礦石成份及品位需求。溫度-35~+50℃,濕度<80%RH。
QIR2002C型主要適用于鋼鐵、稀土金屬、鐵合金、磁性材料、有色金屬、碳化物、陶瓷、無機物、石墨、耐火材料、鐵礦、催化劑、爐渣、水泥、煤、焦炭、巖石及其它材料中碳、硫兩元素的質量分數的測定。
ezAFM是新設計的精致型原子力顯微鏡,具有設計緊湊、美觀大方、高穩定性、占用空間小等特點,而且軟件功能強大、操作簡單、用戶界面良好,而且價格實惠,性價比較為高。它是理想的實驗室用原子力顯微鏡,廣泛應用于高等教育、納米技術教育和基礎研究等領域。產品系列包括:ezAFM、ezAFM+、ezAFM AQUA、以及ezAFM-Vacuum,ezSTM除了基本的形貌等掃描,可以用于電學、磁學等拓展模式,以及液相、真空環境等。
原子力顯微鏡(Atomic Force Microscope, AFM)經過30多年的發展后,從形貌測試及其它常規功能來看已經非常成熟。然而常規的原子力顯微鏡也越來越無法滿足科研人員在納米尺度下對于樣品進行多性質原位測試分析的需求,尤其在化學、光學、電學、熱學、力學等領域。 在具備常規原子力顯微鏡功能的條件下,基于光誘導力顯微鏡(Photo-induced Force Microscope, PiFM)技術,結合波長可調的可見-紅外光源,從而實現10nm以下空間分辨可見-紅外成像與光譜采集,無需遠場光學接收器及光譜儀。 此外,VistaScope原子力顯微鏡還可以與各類拉曼光譜儀
SPRm200 表面等離子共振顯微鏡 工作原理基于表面等離子共振(SPR)技術。是將表面等離子體共振技術和光學顯微鏡巧妙結合為一體的生物傳感檢測儀??梢酝瑫r得到細胞原位明場成像、SPR成像、及SPR動力學曲線定量親和常數、結合解離常數,它為免標記研究分子相互作用的領域開辟一個嶄新的前沿。專門針對細胞膜蛋白和相關分子免標記檢測而設計的SPRm200, 使您在不需要從細胞中提取和分離膜蛋白的前提下實時觀察細胞結構并同時測量藥物和靶點在細胞上的結合過程。還可進行對藥物和在天然狀態下的膜蛋白之間相互作用的測量,高分辨SPR成像,可
NanoFlip產品既可以工作在真空環境下進行各種原位力學測試;也可以直接在大氣環境下測試樣品的硬度、楊氏模量或者其它物理力學性能。 NanoFlip在硬度和楊氏模量測試、連續剛度測試(CSM)、力學性能譜圖(Mapping)、納米動態力學分析(DMA)、劃痕和磨損測試、柱壓縮等測試中表現出色,可同時將SEM圖像與力學測試數據同步。NanoFlip還可以進行快速壓痕測量,這是在惰性環境(如手套箱)中研究非均相材料的重要手段。
KLA Candela光學表面缺陷分析儀(OSA)可對半導體及光電子材料進行先進的表面檢測。Candela系列既能夠檢測Si、砷化鎵、磷化銦等不透明基板,又能對SiC、GaN、藍寶石和玻璃等透明材料進行檢測,成為其制程中品質管理及良率改善的有力工具。 Candela系列采用光學表面分析(OSA)專用技術,可同時測量散射強度、形狀變化、表面反射率和相位轉移,為特征缺陷(DOI)進行自動偵測與分類。OSA檢測技術結合散射測量、橢圓偏光、反射測量與光學形狀分析等基本原理,以非破環性方式對Wafer表面的殘留異物,表面與表面下缺陷,形狀變化和薄膜厚度
Filmetrics的薄膜電阻測量設備開發源自于有著超過30年經驗的KLA的薄膜電阻計量技術,并由20年臺式測量設備開發經驗的Filmetrics團隊完善了桌面式方塊電阻測量產品。KLA薄膜電阻測量技術包括接觸(4PP)和非接觸(EC)方法。 Filmetrics的R50系列方塊電阻測量儀器可測量沉積在多種基材上的導電片和薄膜,跨越10個數量級范圍電阻率,包括:半導體晶圓基板、玻璃基板、塑料(柔性)基材、PCB圖案特征、太陽能電池、平板顯示層和圖案化特征、金屬箔