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超高真空多腔室物理氣相沉積系統（PVD）是一款專為薄膜半導體材料制備設計的高端設備。它由全球領先的沉積設備制造商生產，具備多種沉積方式，包括磁控濺射、電子束蒸發和熱蒸發，且預留了多種功能接口，高度靈活，非常適合科研用途。該系統在機械泵和分子泵的配合下，極限真空可達5×10?1? Torr（經過24小時烘烤冷卻后），鍍膜均勻度小于3%。它支持多種樣品尺寸（1”至12”），配備石英晶體微天平和橢偏儀進行膜厚監控，樣品臺可旋轉、加熱并加載偏壓。
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PVD公司生產的超高真空磁控濺射系統是一款專為薄膜半導體材料制備設計的高性能設備，支持最大300mm襯底，具備RF、DC和脈沖DC等多種濺射技術，靶材尺寸從1英寸到8英寸可選。系統配備可加熱至850°C的襯底支架、高真空腔體（304不銹鋼材質）、分子泵或冷凝泵真空系統，以及QCM膜厚監控和RGA殘余氣體分析等原位監控功能。此外，還可根據客戶需求擴展RHEED、橢偏儀等功能，廣泛適用于半導體薄膜的研發與生產。
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納米顆粒和薄膜的模塊化PVD系統 是一種多功能的 PVD 系統，能夠生成納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。NL-FLEX 能夠容納任何類型的基材，包括卷對卷、非平面和粉末涂料。服務于廣泛的應用，包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。這種模塊化 PVD 沉積系統可以與分析工具集成，為您的研究需求提供完全定制的解決方案。
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納米顆粒和薄膜UHV沉積系統是一種超高真空 PVD 系統，能夠產生納米顆粒和薄膜，非常適合工業和學術研究。 服務于廣泛的應用，包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。該UHV 沉積系統可以與分析工具集成，為您的研究需求提供完全定制的解決方案。
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該系統是一種臺式真空系統，可將超純非團聚納米顆粒直接沉積到直徑達 50 毫米的任何表面上。專為共享研究或教學實驗室而設計，學生和研究人員可以在各種納米技術項目中并行使用，而不必擔心交叉污染。應用包括催化、光子學、儲能、傳感器和生命科學。
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這是一款美國原產的高性能脈沖激光沉積系統（PLD），用于制備高質量薄膜和研發新材料。系統通過高密度脈沖激光照射靶材，形成等離子體并沉積到對面的基板上，可獲得熱力學準穩定狀態的薄膜。設備配備6個1-2英寸靶位，可自動旋轉并由步進電機控制靶材選擇；基板采用2英寸鉑金加熱片，加熱溫度可達1200℃，溫差小于3%，可在氧氣環境中旋轉工作。成膜室和樣品搬運室均為SUS304材質，本底真空度分別小于5×10?? Pa和5×10?? Pa，配備分子泵和機械泵，以及超高真空閥門和真空計。
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PVD公司生產的脈沖激光沉積分子束外延系統（PLD MBE）憑借其優異性能，在國內外擁有眾多用戶，廣泛應用于薄膜外延制備。作為美國主要制造商，PVD專注于設計和制造超高真空薄膜沉積系統，涵蓋分子束外延、UHV濺射和脈沖激光沉積等領域。其產品主要面向小型研發系統，適用于多種材料的外延生長，如半導體材料、ZnO、GaN、SiGe、金屬/氧化物、磁性薄膜、超導薄膜、氧化物和陶瓷材料等。系統配置包括主腔室、樣品傳輸腔、1100度加熱系統、樣品旋轉、PLD靶材操控器及光路、K-cell熱蒸發源、電子束蒸發源和射頻RF離子源等。
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這是一款高性能的磁控濺射儀，適用于4英寸和6英寸襯底，具備4個靶位，靶材尺寸為3英寸，可濺射磁性材料。設備極限真空度低于6.6×10?? Pa，膜厚均勻性控制在±5%以內。靶與樣品距離可調，并可在30度內擺頭。配備load-lock系統，可放置5片6英寸樣品，電動馬達在高真空狀態下順序傳送并濺射樣品。樣品臺可加熱至750℃并支持旋轉，配備全自動真空控制模塊。氣路支持Ar、O?、N?，提供2個600W射頻電源和2個1000W直流電源，滿足多種薄膜制備需求。
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昆泰重工 GZ4220金屬 雙立柱轉角臥式：1.鋸床按有報警功能.2.鋸條斷裂時,鋸床報警,自動停機.3.鋸床按有暫停功能,比如你下料時鋸到一半時想停一下,可以按暫停鍵,想啟動時再按一下暫停鍵,鋸床還會接著上一組數據接著工作,不會回零重新鋸切.
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本機床為數控床身，具有較強的承載能力，三方向導軌均為淬火硬軌，導軌寬、跨距大，結構及外形尺寸緊湊合理，主軸為變頻電機通過同步帶驅動?？摄娤?、鉆孔、擴孔及鉸孔等多種功能，能夠實現對盤類、板類、殼體、模具等復雜、高精度零件的加工，適于多品種各中、小型零件的平面、斜面、溝槽、孔等多種工序加工，是機械、電子、儀器、儀表、模具、汽車等行業的理想加工設備;可選配第四軸，選配第四軸可實現四軸四聯動，電機功率為0.75kW(2.4 N.m)分度頭型號為FK15125, 擴大了機床的加工范圍。
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XK6036臥式的主要特點：是一款經濟型數控臥式，機床三軸聯動，數控系統采用國產通用型數控系統，兼容發那科，廣數，凱恩帝等系統G代碼。機床主軸配置大功率電機，全部齒輪傳動，扭矩大。進給軸電機配置高扭矩伺服電機，扭矩大，運行速度快。
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XK6132自動銑削斜面溝槽設備是一種用途廣泛的機床，在上可以加工平面(水平面、垂直面)、溝槽(鍵槽、T形槽、燕尾槽等)、分齒零件(齒輪、花鍵軸、鏈輪)、螺旋形表面(螺紋、螺旋槽)及各種曲面。此外，還可用于對回轉體表面、內孔加工及進行切斷工作等。在工作時，工件裝在工作臺上或分度頭等附件上，銑刀旋轉為主運動，輔以工作臺或銑頭的進給運動，工件即可獲得所需的加工表面。由于是多刃斷續切削，因而的生產率較高。簡單來說，可以對工件進行銑削、鉆削和鏜孔加工的機床。
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C6140 主軸孔經52mm金屬機的主要組成部件有：主軸箱、進給箱、溜板箱、刀架、尾架、光杠、絲杠和床身?！裰鬏S箱：又稱床頭箱，它的主要任務是將主電機傳來的旋轉運動經過一系列的變速機構使主軸得到所需的正反兩種轉向的不同轉速，同時主軸箱分出部分動力將運動傳給進給箱。主軸箱中等主軸是車床的關鍵零件。主軸在軸承上運轉的平穩性直接影響工件的加工質量，一旦主軸的旋轉精度降低，則機床的使用價值就會降低。
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GB4250雙柱龍門臥式金屬系列，主要用于鋸切各種黑色金屬、有色金屬。具有鋸口窄、省料、節能、鋸削精度高、操作方便、生產x率高優點。
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CK6150臥式金屬切削機經濟型：該系列產品采用臥式平床身整體鑄件結構，床身、床頭、床鞍、床腿等基礎件均采用樹脂砂鑄造，人工時效處理，整體穩定性好;床身導軌超音頻淬火，床鞍及滑板導軌結合面采用“貼塑"處理，移動部件可實現微量進給，防止爬行;進給系統采用伺服電機、精密滾珠絲杠、高剛性精密復合軸承結構，定位準確、傳動效率高;主軸轉速高，調速范圍寬、整機噪音低。
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VMC855加工中心切削力度強全防護：1、底座、滑座、工作臺、立柱、主軸箱等主要基礎件采用高剛性的鑄鐵結構，在底座的內部分布著筋，滑座為箱體式結構，了基礎件的高剛性和抗彎減震性能，立柱采用柱形結構，基礎穩固，剛性好;基礎件采用樹脂砂造型并經過時效處理，確保機床長期使用精度的穩定性，為機床性能的穩定性提供了保障。
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cw6180是能對軸、盤、環等多種類型工件進行多種工序加工的臥式車床，常用于加工工件的內外回轉表面、端面和各種內外螺紋，采用相應的刀具和附件，還可進行鉆孔、擴孔、攻絲和滾花等。是車床中應用的一種，約占車床類總數的65%，因其主軸以水平方式放置故稱為臥式車床CW9180具有用途，主要用于各種回轉體零件的外園、內孔、端面、錐度、切槽及公制螺紋、徑節螺紋等的車削加工，此外還可以用來進行鉆孔、鉸孔、套料、擴孔、滾花、拉油槽等加工。CW還適合于使用硬質合金刀具對各種黑色金屬和有色金屬進行切削和高速切削;性能好，操縱方便。
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C6140是能對軸、盤、環等多種類型工件進行多種工序加工的臥式車床，常用于加工工件的內外回轉表面、端面和各種內外螺紋，采用相應的刀具和附件，還可進行鉆孔、擴孔、攻絲和滾花等。是車床中應用泛的一種，約占車床類總數的65%，因其主軸以水平方式放置故稱為臥式車床.
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VMC1160/1060立式加工中心機床結構及外形優化設計，緊湊合理、剛性。能夠實現對各種盤類、板類、殼體、凸輪、模具等復雜零件的加工，可完成鉆、銑、攻絲等多種工序，適合于批量產品的生產，能滿足對中小型工件的鉆、攻、銑工序的加工。
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ck6163臥式高頻淬火大孔徑重型的主要用途及特點，主要用于加工各種軸類、盤類零件，可以車削各種螺紋、圓弧、圓錐及回轉體的內外曲面，能夠滿足黑色金屬及有色金屬高速切屑的速度需求。適合汽車、摩托車、電子、航天、等行業對轉體類零件進行高效、大批量、的加工。
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