本發明提供了制造化學機械平面化(CMP)拋光層或拋光墊的方法,其包含:提供敞口模具,其具有帶有會產生平的或成形的CMP拋光層表面的凹形貌的表面并且具有保持在其上適當位置的一或多個終點檢測窗口片;將液體異氰酸酯組分與液體多元醇組分混合,形成無溶劑反應混合物;將所述反應混合物噴射到所述敞口模具上,同時將所述一或多個窗口片保持在適當位置,每個窗口片位于預先確定的位置,接著固化所述反應混合物。
聲明:
“用來制造具有整體窗口的化學機械平面化(CMP)拋光墊的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)