GF-5700手持礦石分析光譜儀可分析銅 鐵 鈦 釩 鉻 錳 鈷 鎳 鋅 鍶 鋯 鉭 鈮 鉬 錫 銻 鉿 鎢 鉛等自然礦石;暫時不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O,Mg, S, P, Si;現場快速分析各種金屬礦石化學成份及品位,滿足國內外各種條件差、沒有分析試驗室礦山單位,用于快速分析礦石成份及品位需求。溫度-35~+50℃,濕度<80%RH。
NJQ-4A型數顯碳硫全自動高速分析儀主要用于對鋼、鐵、礦石、焦碳以及其它材料中碳硫元素的精確定量分析,廣泛應用于冶金、鑄造、機械制造及加工等工礦企業,產品質檢所,大專院校,科研院所。是化學分析工作者檢測碳硫的設備。
無錫吉致電子25年研發生產——鋁合金拋光液/鋁合金slurry/鋁合金懸浮液/鋁合金拋光液拋光漿料Slurry/鋁合金CMP拋光液/鋁合金化學機械拋光液/鋁合金lapping研磨拋光液/鋁合金化學機械拋光液Slurry/鋁合金CMP集成電路拋光液/JEEZ鋁合金拋光液
吉致針對碳化硅sic拋光的4道工藝制程搭配不同型號研磨液、拋光液和拋光墊(粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊)。在研磨和拋光應用中提高碳化硅襯底表面質量,同時大大提高材料去除率。
吉致電子陶瓷類拋光液適用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的鏡面拋光,通過CMP拋光工序可得到理想鏡面效果,表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
合金銅CMP拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態的銅、合金銅工件的鏡面拋光,CMP拋光工序通過大量磨擦和化學反應作用,可以使銅金屬表面得到加工和平整坦化?;瘜W氧化銅金屬后磨蝕性去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
金屬鉬片拋光液作用:吉致電子金屬類拋光液適用于平面形態的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光,拋光工序通過大量磨擦和化學反應作用,可以使鉬金屬表面快速去粗和平整坦化?;瘜W氧化腐蝕鉬合金表面,研磨去除氧化物部分的機制可得到理想鏡面效果,金屬鉬工件表面光滑平整具有易清洗、無殘留等特點。
QIR2002C型主要適用于鋼鐵、稀土金屬、鐵合金、磁性材料、有色金屬、碳化物、陶瓷、無機物、石墨、耐火材料、鐵礦、催化劑、爐渣、水泥、煤、焦炭、巖石及其它材料中碳、硫兩元素的質量分數的測定。
一、儀器技術特點 1、儀器光學系統采用帕型-龍格裝置,高真空,分辨率高、靈敏度高等特點;由于機刻光柵可以產生較好的光譜,所以選線更具靈活性,從而避免光譜干擾; 2、儀器結構設計合理,電子系統高度集成化電路,故障率低; 3、分析速度快、重復性好、穩定性好; 4、可用于多種基體分析: Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn等; 5、采用純中文Windows系統下的操作軟件,操作簡單易懂; 6、計算機軟件建有數據庫系統,方便了測量數據的查詢與打印,也可通過網絡遠程傳輸數據,方便快捷;