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萬峰真空水平連鑄機生產線具備顯著特點與優勢。其嚴格控制溫度和合金成分，配備電磁攪拌和強大的真空脫氣能力，可在真空條件下熔煉和拉鑄高級精密合金及有色金屬。IGBT中頻電源加熱速度快、節能環保，采用全橋整流器，運行穩定，具備多種預警保護功能，且電磁振動和噪音低。保溫爐及結晶器采用真空/氣氛保護，配備完善的密封措施和高精度定位裝置。引鑄系統可定制，拉速可調，能滿足多種連鑄需求。自動收卷機與連鑄機同步運行，實現高效自動化生產。
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回轉爐旨在提高產量，并保持高性能小零件（如軸承和緊固件）熱處理的均勻性和淬火性能。該設備生產靈活性高，可用于單一或多種應用的生產環境，可用于小批量或大批量生產。與傳統的網帶爐或批次系統相比，回轉爐在日常維護和運行成本相對較低。
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真空熔煉爐是一種用于特種金屬（如特鋼、銅合金、輕金屬等）熔煉與澆鑄的先進設備，由中頻電源、雙層水冷爐體、真空機組、液壓翻轉機構、機械攪拌裝置等組成。其工藝是在真空環境下通過中頻感應加熱將金屬熔化，再經液壓傾爐、澆鑄流槽澆入錠模冷卻成型。該設備采用新型中頻電源設計，優化線圈絕緣和爐內結構，降低諧振電流，杜絕放電現象，減少漏水風險，配備智能一體化控制系統，操作簡便且維護方便，廣泛應用于特種金屬的高質量熔煉生產。
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超高真空退火爐是專為金屬薄膜和金屬絲的退火與還原處理等熱處理工藝實驗設計的設備，具備極限真空8x10??Pa和工作真空8x10??Pa（在1000℃退火溫度下）的性能指標，確保在高溫下維持高真空環境。該爐采用中400x400(mm)立式柱狀雙水冷不銹鋼結構，能夠實現常溫至1500℃的溫度變化范圍，具備程序控溫和高精度控溫能力，均溫區尺寸為Ф80x120(mm)。系統由真空抽氣機組、真空室、測量系統、加熱控溫系統、電動升降系統、氣路系統、液氮冷阱及臺架等組成，并通過計算機實現控制，滿足長時間高溫處理需求。
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TH-1000臥式真空退火爐專為高溫合金的光亮退火和真空除氣設計，具備5x10??Pa的極限真空度和Ф200x1100(mm)的真空室結構，確保高效處理。最高加熱溫度可達1000℃，均溫區Ф150x600(mm)內溫度偏差小于±2℃，加熱至850℃僅需不到2小時。設備采用外加熱方式，配備多路熱電偶以維持精確的溫度控制。主要由真空室、測量、抽氣、加熱及電控系統組成，滿足高精度熱處理需求。
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真空退火爐是一種臥式結構的高效熱處理設備，具備不銹鋼雙層水冷真空爐體和前門觀察窗。其系統空載極限真空度可達≤8x10??Pa，工作真空度在800℃時保持≤1x10?3Pa，泄漏率不大于1x10??Pa/L·s。分子泵能在30分鐘內將真空度降至1x10?3Pa，壓升率控制在0.67Pa/h以內。最高加熱溫度可達1300℃，工作爐溫范圍為600℃至1250℃，溫度均勻性為±4℃，測溫精度±1℃，升溫速度和降溫速率可控。該設備采用導電智能控溫表，確保精確的溫度控制。
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高真空管式氮化爐是一種臥式管式外加熱爐，集成了抽氣系統和手套箱系統，安裝在可移動臺架上，便于操作。該爐具備出色的真空性能，系統極限真空度可達7×10??Pa，工作真空度為5×10?3Pa，漏率僅為1×10??Pa·L/s。加熱溫度范圍從室溫至450℃，樣品表面溫度可達250℃，均勻區軸向長度250mm，控溫精度為±10℃。配備5KW偏壓電源，電壓最大2kV，脈沖頻率40~60KHz可調，并具有多重保護功能。手套箱設計便于樣品處理，氣路系統可控制N?、Ar氣體流量，整個系統還配有冷卻循環水裝置和斷水斷電聯鎖保護，確保安全穩定運行。
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高真空加熱裝置是一種先進的材料處理設備，具備優異的真空性能，極限真空度可達<6.7x10??Pa，漏率優于1.0x10??Pa·L/s，采用分子泵+干泵的抽氣機組，提供快抽和慢抽兩種方式。裝置配備316L不銹鋼制成的真空罐體，內部尺寸至少為直徑中50mmx100mm，加熱爐內最高加熱溫度達800℃，控溫精度為±1℃，且外殼溫度低于200℃。此外，裝置還具備氙氣循環降溫系統，保護罐體密封口，以及包含真空機組控制、真空度和溫度顯示及系統聯鎖保護功能的電控系統。
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該真空管式爐具備優異的真空性能，系統極限真空度可達到優于3.0×10??Pa，而系統漏率僅為1.0×10??Pa·L/s，這保證了爐內能夠在極低的氣壓下進行高溫處理，適合對材料進行精密的熱處理工藝。這些真空指標對于確保材料處理過程中的高質量和高純度至關重要，如陶瓷基板的退火和真空燒結等應用。
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高溫高真空試驗爐是一種用于高溫真空環境下的材料性能測試設備，具備以下特點：在1700K工作溫度下，爐膛內真空度優于1.0×10??Pa，真空計測量范圍寬廣（5.0×10??Pa~1.0×10?Pa）。設備設計滿足長時間穩定工作溫度不低于1500℃，最高可達1550℃，樣品區域溫度均勻性在1200K~1700K范圍內優于±3K。爐膛有效加熱空間覆蓋樣品旋轉空間（約Ф300mm×200mm），開門尺寸滿足樣品架的取放和安裝。真空腔體外表溫度控制在不高于60℃。
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鈹真空熔煉蒸餾提純爐是一種專門用于鈹金屬提純的設備，采用中頻感應加熱技術，在真空環境中對鈹金屬進行熔煉和蒸餾。通過坩堝口上方的水冷收集器，蒸餾后的高純度鈹金屬得以收集，實現高效提純。該設備一次蒸餾量可達3000克，具備工業化生產規模，操作簡便，且坩堝檢查、冷凝器拆裝及腔體清理均十分方便，適合大規模生產高純度鈹金屬。
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1400℃開啟式真空管式爐采用氧化鋁多晶纖維固化爐膛，工作溫度區間可根據實驗需求選配電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒加熱，配備程序控溫系統。爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，支持抽真空和通氣氛，爐膛結構可選開啟式或封閉式。該設備適用于大專院校、科研院所及企事業單位研發中心的材料高溫燒結、研發與低溫處理，以及小批量生產，支持精細氣氛控制，可通保護氣體和弱還原性氣體，具備燒結速度快、效率高、應用范圍廣等特點。
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三溫區立式真空管式爐采用立式結構，側面可打開爐膛，爐管兩端采用不銹鋼法蘭密封，配備氣嘴、閥門和壓力表，可連接不同真空系統實現多種真空效果。設備三路單獨控溫，可根據試樣要求梯度控溫，溫場均勻。爐管固定于支撐架上，使用方便，操作簡單，具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫速率快、節能等優點。適用于大專院校、科研院所和企事業技術研發中心的材料高溫燒結、研發與低溫處理，以及小批量生產，可提供精細氣氛控制，支持通保護氣體和弱還原性氣體，具備燒結速度快、效率高、應用范圍廣等特點。
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不銹鋼真空氣氛爐以電阻絲為加熱元件，外加熱方式，采用控溫系統，可控硅控制。爐膽采用耐高溫、耐壓、310S不銹鋼；雙層殼體結構，帶有風冷和水冷系統，能快速降溫，爐門配有水冷，以防密封圈過快老化，保證爐門與爐膽的可靠密封。
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