有色金屬電冶金設備

超高頻MOSFET電源 397     

 0

超高頻MOSFET電源是一種高效節能的加熱設備，功率范圍50kW-300kW，頻率100kHz-1000kHz，功率因數>0.92。它具備高控制精度、快速加熱和低能耗的特點，同時配備智能化保護系統，確保高可靠性和低故障率，廣泛應用于高精度感應淬火、薄板帶加熱、細鋼絲/焊絲加熱等領域。

中頻/超音頻IGBT電源 448     

 0

中頻/超音頻IGBT電源是一種高效、智能的工業加熱電源，功率范圍50kW-2000kW，頻率0.2kHz-50kHz，功率因數>0.93。它具備變頻自適應和變載自適應功能，能在負載變化時自動調整頻率和匹配狀態，確保高效率和質量一致性。該設備采用智能化保護系統和DSP數字化控制，具有高可靠性、快速啟動、恒功率輸出等特點，配備工業觸摸屏或工控機顯示界面，支持質量監控、故障自診斷及遠程控制，廣泛應用于調質生產線、感應淬火、有色金屬熔煉、半導體行業等領域。

低頻IGBT電源 362     

 0

低頻IGBT電源是一種高效節能的加熱設備，功率范圍100kW-5000kW，頻率10Hz-100Hz，功率因數>0.92。它采用功率單元模塊化設計，可靈活組合并無縫集成至現有生產線。該設備加熱速度快，溫度控制精準且均勻，能耗低，支持自定義溫度曲線，具備單輸出/多輸出及單相/多相輸出功能，廣泛應用于有色金屬區域加熱、半固態加熱、電磁攪拌、大直徑鋼坯/棒透熱、軋輥熱處理等領域。

混合管式/箱式爐 581     

 0

KSL-1200X-H是一款**設計的混合管式/箱式爐，此款高溫爐配有2個爐管（帶有真空密封法蘭）和一個7.2L的箱式腔體。此款高溫爐可在同一時間對不同樣品在空氣下燒結，也可對部分樣品在真空或氣氛保護環境下熱處理。

五面加熱箱式爐 502     

 0

五面加熱箱式爐KSL-1200X-5L-UL專門為合金及其它對溫度場均勻性要求較高的金屬材料進行退火處理而設計的，爐腔內的五個面都安裝有加熱元件，具有較好溫度場均勻性。此外，腔體底部安裝有碳化硅板，最大可承受樣品的重量可達100kg。

1200℃微型開啟式管式爐 476     

 0

1200℃微型開啟式管式爐OTF-1200X-S是小型管式爐，最高工作溫度為1200℃，最大功率為1200W，可配置直徑為1"或2"的高純石英爐管。爐管兩端配置一對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結。

工位高通量電弧熔煉系統 532     

 0

SP-MSM360 32工位高通量電弧熔煉系統是一款多工位（工位數量可按照要求進行定制加工）的高通量電弧熔煉系統，專門針對于合金的結構和相圖研究實驗。由真空手套箱、X-Y-Z軸可移動機床和電弧熔煉爐組成，一次可容煉32組樣品，其熔煉溫度可高達3500℃。SP-MSM360 32工位高通量電弧熔煉系統在工作過程中可以通過控制系統來移動電極到所要熔煉的坩堝內對樣品進行熔煉。煉樣坩堝和電極都采用水冷裝置，腔室內可以通氬氣對熔煉氛圍進行保護，對于采用高通量法來探索新一代高溫合金的實驗中，此系統將是優佳選擇。

四電弧提拉法單晶生長爐 548     

 0

SP-MSM-4CZ四電弧提拉法單晶生長爐是一款采用4電弧的提拉法單晶生長爐（采用Ar氣電弧對樣品熔融，提拉裝置提拉），其溫度可達3000℃。腔體為304不銹鋼腔體（帶有水冷夾層），真空度可達10-5Torr.此款單晶爐特別適合生長高熔點的單晶，如Ti單晶，YSZ，SiC和CeRh2Si等等。

1200℃單溫區可傾斜旋轉爐 557     

 0

1200℃單溫區可傾斜旋轉爐OTF-1200X-4-R是針對無機化合物煅燒，為獲得較好的一致性而設計。特別對于鋰電池負極材料的制備，具有極好的效果，且可提高導電性。此外，還可應用在粉體材料上涂層，如LiFePO3、LiMnNiO3等材料的研究和開發。

1100℃多工位管式爐 684     

 0

GSL-1100X-S是一款已通過CE認證的小口徑管式爐(1～2"直徑),是專為制備小樣品而設計。最高溫度可達1100℃。標配內包含不銹鋼密封法蘭與石英管，客戶接通電源即可立即使用。30段可編程精密溫度控制器,可根據不同的客戶需求來設定升降溫程序?？販鼐取?℃。爐體可垂直或水平放置以滿足不同的應用,如VSL、CVD 、等淬火試驗。

微波滑軌式管式爐 512     

 0

ZGS型微波滑軌式管式爐是一款微波快速升溫又可快速降溫的真空氣氛微波管式爐。具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境。適用于碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構可控生長、陶瓷電容氣氛燒結、氧化石墨烯還原膨化等實驗。

1500℃快速升溫管式爐 508     

 0

GSL-1100X-RTP50是一款CE認證的快速加熱冷卻爐，配置50mm OD×44mm ID×304.8mm L的高純石英管（單端封口），最高工作溫度可達1100℃，一滑軌安裝在右側法蘭處用于爐管的手動移動，從而實現快速的加熱冷卻。為取得最快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后將爐管插入到加熱區內；為獲得最快冷卻，可在樣品加熱后從加熱爐中移出爐管在空氣中進行強冷。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10℃/s，是低成本快速熱處理的理想爐子。

高真空快速CVD系統 588     

 0

高真空快速CVD系統OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統和高真空機組組成，可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3″ ）的退火，并采用 10KW的紅外燈進行加熱，最快升溫速度可達 120℃/s，配有RS485 接口，可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。

上吸鑄式感應熔煉爐 402     

 0

SP-15VSC上吸鑄式感應熔煉爐是一款通過MET質量認證且頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種獨特的結構設計通過將熔融金屬直接抽吸到頂部石英管中來鑄造產品（3-5mm直徑的合金棒）。真空吸鑄裝置所施加的吸力能夠讓熔體快速運動從而使石英管內的熔體的快速凝固。該套設備采用吸鑄法鑄造合金能有效減小合金收縮缺陷，是制備小直徑合金棒的理想工具。

電弧熔煉爐 402     

 0

AM-800-3電弧熔煉爐（3工位，帶有鑄造和磁力攪拌系統，最大熔煉量為200g）是一款大型的高真空電弧熔煉系統，3個熔煉工位（3坩堝）。一個工位帶有磁力攪拌系統（熔煉量為80g）,一個熔煉工位帶有真空吸注裝置（熔煉量為150g）,最后一個工位最大熔煉量為200g.此多工位熔煉系統可實時各種實驗用于探索新一代合金。

25KW程序控溫感應熔煉爐 476     

 0

25KW程序控溫感應熔煉爐SP-25TC是一款小型程控感應熔煉系統，配備有直徑?100mm的石英管、不銹鋼法蘭、石墨坩堝、真空泵、水冷機和移動架，最大功率為25KW，是生長晶體和合金熔煉（熔點< 1700oC）的理想選擇。

小型金屬熔煉爐 532     

 0

SP-MSM200（非自耗式）小型金屬熔煉爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉，且可以同時制備多個樣品（少于7個），是高等院校、科研院所制備金屬及合金試樣的理想設備，可用于新型合金材料的制備及提純、混合應用。

小型開啟式管式爐 489     

 0

VBF-1200X-H8是一款已通過CE認證的真空管式爐，加熱絲均勻分布石英腔體外側。腔體尺寸 Φ200x340mm水平安裝. 專用水冷法蘭及針閥密封，使用雙旋片機械泵或分子泵機組時真空度可達10-2 ～10-5torr。它是專門針對在1100℃真空或各種氣氛條件下對6"以下的樣品進行熱處理而設計的，同時此款設備也可以作為真空焊接爐，來焊接小的樣品。

氣體霧化金屬粉末制備系統 507     

 0

GSL-1600X-VIGA300氣體霧化金屬粉末制備系統是**研制開發的冶金設備，可用于制備鐵基金屬粉末、鎳基金屬粉末、銅粉末、貴金屬粉末等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作及清理方便的優點,是一款實驗室制備材料粉末的理想設備。

1100℃16通道管式爐(高通量退火&淬火) 466     

 0

GSL-1100X-MGI-16是一款16通道管式爐，針對于高通量樣品燒結，退火和淬火使用，其最高溫度可達1100℃。每個加熱模塊都由獨立的溫控系統控制，每個爐管都是采用真空法蘭密封可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理。

1100℃高壓氫氣管式爐 504     

 0

1100℃高壓氫氣管式爐OTF-1200X-60HG是專為在氫氣條件下處理樣品而設計的，最高溫度可達1100℃，采用可編程的30段精密溫度控制器。本機爐管采用無縫鎳基合金制作而成，爐管可用于所有惰性氣體和氧氣氣氛，氣壓可達到30 PSI。此外，本機設有3M氫氣探測報警器，一旦發現泄露，報警器將自動關閉高純氫氣發生器。

800℃雙溫區高壓爐 536     

 0

800℃雙溫區高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 SS310S鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 PSI高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機采用PID方式進行控溫，每個溫區可獨立控制。

2000℃溫度可控型30KW感應加熱爐 526     

 0

2000℃溫度可控型30KW感應加熱爐SP-85KTC是一款較大型高溫感應加熱、熔煉爐系統，配備30KW感應加熱器、8.5"（216mm）石英管、鉸接式法蘭及閥門、石墨坩堝、石墨毯、氧化鋁保溫毯、16L/min循環冷水機、真空泵和移動爐架，最高溫度可以達到2000℃（使用時石英管內需通入保護性氣體），是生長晶體、金屬熔煉和各種材料的熱處理的**選擇。

小型混合管式/箱式爐 425     

 0

KSL-1100X-S-H是一款通過CE認證的小型混合管式/箱式爐，其爐膛尺寸為100x100x100mm,做為單純的箱式爐可對樣品在空氣環境下進行熱處理。此款設備配有石英爐管和不銹鋼密封法蘭，可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理。設備最高溫度可達1100℃，而且功率僅僅為500-700W。另外設備體積較小，可放入到手套箱里操作。

小型金屬熔煉吸鑄爐 493     

 0

MSM20-8（非自耗式）小型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉，且可以同時制備多個樣品（少于7個），是高等院校、科研院所制備金屬及合金試樣的理想設備，可用于新型合金材料的制備及提純、混合應用。

1200℃雙管三溫區管式爐 505     

 0

1200℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）OTF-1200X-III-D5-4最高工作溫度可以達到1200℃，專門針對于用CVD方法在金屬箔上生長薄膜物質，如石墨烯、太陽能電池的電極材料和其他電池電極材料等。

加熱平臺 485     

 0

MTI系列加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發，采用鋁材質整體鑄造，單片機作為核心控制部件，升溫速度快，控溫精準，溫度高低可調，使用完畢后散熱速度快。MTI系列加熱平臺主要適用于加熱時不會發生性質和性狀改變的材料，即不受加熱影響的材料，尤為適用于對溫度敏感材料（如晶體、半導體、陶瓷、金屬等材料）的加熱。也可用于實驗室做化學分析、物理測定、熱處理時進行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗加熱。設備結構簡單操作方便，是實驗室進行加熱用的合適工具。

1400℃鐘罩爐 457     

 0

1400℃鐘罩爐KSL-1400X-BL是大型的鐘罩爐，其最高溫度為1400℃，容積為512L，是金屬退火和高溫燒結的**理想設備。

1200℃小型8通道管式爐(高通量燒結) 475     

 0

GSL-1200X-MGI-8是一款1200℃小型8通道管式爐，其爐管直徑為20mm，可用于高通量燒結，最高溫度可達1200℃。每個加熱模塊都由獨立的溫控系統控制，每個爐管采用真空法蘭密封，可同時放入8個樣品，在真空或氣氛保護環境下進行不同溫度的熱處理，占地小，能耗低，是高校、科研院所、工礦企業做高溫燒結、金屬退火、質量檢測用的理想產品。

1200℃高溫箱式爐(27L) 442     

 0

1200℃高溫箱式爐（27L）KSL-1200X-M爐膛體積為27L，采用高純氧化鋁作為爐膛材料，且表面涂有高溫氧化鋁涂層，以提高加熱效率和保持爐膛潔凈度，延長使用壽命。溫控系統采用PID方式調節溫度，可設置30段升降溫程序，最高工作溫度可達到1200℃。